中钢天源:黑磷纳米片项目为技术储备,尚未商业化应用

公司知识产权与技术创新 - 公司于2025年05月18日通过《专利合作条约》(PCT)途径申请的国际专利《一种黑磷纳米片及其制备方法与应用》正式获得美国专利商标局授权 [1] - 这是公司首项通过PCT途径在美国获得授权的发明专利,标志着公司在国际化知识产权布局上迈出关键一步 [1] - 该专利授权彰显了公司在新材料领域“核心技术”创新能力获得国际认可 [1] 技术储备与商业化状态 - 公司回应该“黑磷纳米片”项目为技术储备,目前尚未商业化应用 [1]

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