中芯国际取得半导体结构的形成方法专利
搜狐财经·2026-01-30 10:31

公司专利与技术进展 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司与中芯国际集成电路制造(北京)有限公司共同取得一项名为“半导体结构的形成方法”的专利,授权公告号为CN114823291B,该专利的申请日期为2021年1月 [1] - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司成立于2000年,位于上海市,注册资本为244000万美元,主要从事计算机、通信和其他电子设备制造业 [1] - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司对外投资了4家企业,参与招投标项目129次,拥有商标信息150条,专利信息5000条,以及行政许可446个 [1] - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司成立于2002年,位于北京市,注册资本为100000万美元,主要从事计算机、通信和其他电子设备制造业 [1] - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司对外投资了1家企业,参与招投标项目53次,拥有专利信息5000条,以及行政许可225个 [1] 行业动态与信息来源 - 该新闻信息来源于市场资讯 [2]

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