中芯国际取得光学邻近修正方法及系统专利
公司专利技术进展 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司与中芯国际集成电路制造(北京)有限公司共同取得一项名为“光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质”的专利,授权公告号为CN116263558B,该专利的申请日期为2021年12月 [1] 公司上海主体概况 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司成立于2000年,位于上海市,主营业务为计算机、通信和其他电子设备制造业 [1] - 公司注册资本为244,000万美元 [1] - 公司对外投资了4家企业,参与招投标项目129次 [1] - 公司拥有商标信息150条,专利信息5000条,以及行政许可446个 [1] 公司北京主体概况 - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司成立于2002年,位于北京市,主营业务为计算机、通信和其他电子设备制造业 [1] - 公司注册资本为100,000万美元 [1] - 公司对外投资了1家企业,参与招投标项目53次 [1] - 公司拥有专利信息5000条,以及行政许可225个 [1]