报告行业投资评级 报告给予"半导体设备/行业"领先大市-A(维持)的投资评级。[2] 报告的核心观点 1. 光源、数值孔径、工艺系数、机台四轮驱动共同推动光刻产业升级。分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定。[1][4] 2. 行业呈现一超两强格局稳定,新建晶圆厂和产线扩产拉动光刻机需求。EUV光刻增速最快,KrF与l-line仍为主要需求类型,ASML为EUV光刻机独家供应商。[5] 3. 国内外企业通过技术创新和产业生态合作,不断推动光刻机核心技术突破,为国内半导体行业发展提供支撑。[6] 报告分类总结 1. 光刻:集成电路制造核心环节 - 光刻三剑客:光刻机、光刻胶、光掩膜 [10][25][26] - 光刻机通过光源将光掩膜上图形投射于硅片 [27][28][29] - 光刻胶在曝光区发生光固化反应 [30][31][32] - 光掩膜是图形转移工具或母版 [33][34][35] 2. 技术:光源、数值孔径、工艺系数、机台四轮驱动,共促光刻产业升级 - 分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定 [129][130][131] - 光源波长越短,光刻机分辨率越高 [142][143][144] - 数值孔径越大,光刻机分辨率越高 [198][199][200] - 计算光刻技术包括光学邻近效应校正(OPC)、光源-掩膜协同优化(SMO)等 [266][267][268] - 双工作台系统提高光刻机精确对准和产能 [306][313][314] 3. 市场:一超两强格局稳定,新建晶圆厂+产线扩产拉动需求 - ASML为EUV光刻机独家供应商,光刻机销量一骑绝尘 [437][438][439] - 中国大陆将新建50座大型晶圆厂,带动光刻机需求 [461][462][463] - 全球8寸和12寸晶圆产能持续提升,进一步拉动光刻机需求 [467][468][469] 4. 破局:师夷长技以制夷,星星之火可燎原 - ASML通过研发投入和并购巩固技术壁垒,构建良性产业生态 [497][498][511] - Nikon以高质量产品和服务为基础,构建良性生态循环 [515][516][517] - Canon通过技术整合赋能新价值,押注纳米压印光刻 [548][549][550] - 国内企业在光源、光学镜头、计算光刻等领域取得进展 [555][556]