行业投资评级 - 电子·半导体 优于大市·维持 [2] 报告的核心观点 - 光刻是先进制程的关键步骤，半导体产业的基石。光刻分辨率决定了元件的最小特征尺寸与芯片的集成度。光刻机为半导体设备皇冠上的明珠，光学系统是其最重要的子系统之一 [2] 根据相关目录分别进行总结 光刻：先进制程关键步骤，半导体产业基石 - 光刻是一种图像复制技术，在芯片制造过程中耗时最长，成本占比最高。光刻的工艺水平决定芯片的制程与性能 [19][25] - 光刻分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定。通过缩短光源波长、增大数值孔径、减小光刻工艺因子可以提高光刻分辨率 [30][35] - 28nm是工艺节点的重要分水岭，在性价比方面与下一代工艺有着较大差异 [49][50] 光刻机详解：半导体制造业皇冠上的明珠，光学系统为重中之重 - 光刻机作为光刻工艺的核心设备，是所有半导体设备中难度最高、最难突破的一环。光刻机由光源、曝光和双工作台三大核心系统组成 [72][85] - 光刻机经历了五代发展和进化，每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点 [74][80] - 光刻机产业链涉及范围广，所需供应组件众多，供应链管理难度高 [81] 千亿市场高速增长，一超两强三分天下 - 2023年光刻机市场规模257亿美元，占晶圆生产设备总市场的24%。预计2022-2028年全球光刻机市场规模CAGR有望达到6% [124][125] - ASML、Nikon、Canon三大光刻机供应商占据了99%以上市场份额，出货量稳步提升，2019-2023年CAGR达16.75% [2] - ASML在高端光刻机市场占据绝对优势，市占率有望继续巩固 [143][146] 国产光刻机空间广阔、任重道远 - 陆资晶圆代工厂产能持续扩张带动光刻机需求提升，美日荷对华先进制程封锁，光刻机国产化势在必行 [2] - 上海微电子作为目前国内唯一前道光刻机整机制造商，其自主研发的600系列前道光刻机可批量生产90nm工艺的芯片 [2] - 国产供应链方面，科益虹源、国望光学、国科精密等公司在光刻机核心技术上取得突破 [2]