核心观点 - 光刻机国产化迫在眉睫，建议关注茂莱光学、福光股份、汇成真空、英诺激光、苏大维格、芯碁微装、中旗新材等产业链投资机会 [3] 市场走势 - 2025年7月15日，上证指数收盘3519.65，涨0.27%；深证成指收盘10684.52，跌0.11%；沪深300收盘4017.67，涨0.07%；中小板指收盘6633.74，跌0.07%；创业板指收盘2197.07，跌0.45%；科创50收盘992.39，跌0.21% [2] 投资要点 光刻机地位与原理 - 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时 长、成本高，光刻机是光刻工艺的核心设备 [3] - 光刻原理是将高能雷射光穿过光罩，使光罩上的电路图形透过聚光镜，将影像缩小到十六分之一后成像在预涂光阻层的晶圆上 [3] 提升光刻机分辨率路径 - 更短波长光源推动光刻机分辨率不断提升，使用 i-line 光源的 ASML 光刻机最高分辨率可达 220nm，Kr - F 和 Ar - F 将分辨率进一步提升至 110nm 和 65nm，EUV 光刻分辨率达到了 8nm [3] - 增大数值孔径可以提升分辨率，浸没式系统突破了 DUV 光刻机 0.93 的数值孔径，将 DUV 分辨率提升到 38nm 以下 [3] 全球市场情况 - 2024 全球光刻机市场规模约为 315 亿美元，光刻机占半导体设备比例约 24%上下 [3] - 出货角度，光刻机销量仍以中低端产品为主，KrF、i - Line 占比分别为 37.9%和 33.6%；其次分别为 ArFi、ArFdry、EUV，占比分别为 15.4%、5.8%及 7.3% [3] - 2022 年，ASML、Canon、Nikon 在光刻机市场份额分别为 82.1%、10.2%和 7.7% [3] 国产化需求 - 2026 年底，大陆 12 英寸晶圆厂的总月产能有望从 2023 年的 217 万片增长到超过 414 万片，人工智能发展大幅提升国内先进制程产能需求 [3] - 芯片生产产线建设中，光刻机购置成本最高，达到设备总投资的 21% - 23%，国内晶圆厂建设潮和 AI 快速发展带动国产光刻机需求持续攀升 [3] - 美国持续加大对华半导体设备出口管制下，国产光刻机产业有望加速崛起 [3] 光刻机整机构成 - 光刻机整机主要由照明光学模组、投影物镜模组、晶圆模组构成 [3] - 照明光学模组分为光源和照明模组 [3] - 投影物镜模组包含多种反射镜和透镜，主要功能是把掩模版上的电路图案缩小到 1/16 之后，聚焦成像到预涂光阻层的晶圆上 [3] - 晶圆模组分为晶圆传送模组和晶圆平台模组，分别负责晶圆传送和承载晶圆及精准定位晶圆来曝光 [3]