--集成电路制造的光刻蓝本 证券分析师 姓名：葛星甫 资格编号：S1350524120001 请务必仔细阅读正文之后的评级说明和重要声明 邮箱：gexingfu@huayuanstock.com 投资评级：看好（维持） 证券研究报告|行业专题报告 电子 2025年9月3日 光掩模及空白掩模行业研究 主要内容 1. 光掩模：集成电路制造的光刻蓝本 2. 空白掩模：光掩模之核 3. 产业主要公司 4. 风险提示 光掩模是连接IC设计与制造的关键图形蓝本 光掩模工作原理 光掩模结构示意图 资料来源：清溢光电招股说明书，中国科学技术大学微纳研究与制造中心，华源证券研究所 3 n 掩膜版（Photomask）又称光罩、掩模版、光刻掩膜版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形"底片"转移用的高精密工具。光掩模用于 下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一，是产业链中不可或缺的 工具，具有资本密集、技术密集的特点。 n 光掩模是由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构。掩膜基板又分为苏打掩膜基板和石英掩膜基板，是制作微细光掩膜图形的感光空 白板。 ...