行业投资评级 * 报告未明确给出具体的行业投资评级（如买入、增持等）[5][67] 报告核心观点 * 化学机械抛光（CMP）是集成电路制造与先进封装中实现晶圆全局平坦化的关键工艺，其市场规模将持续增长，主要驱动力来自半导体工艺进步和先进封装技术的演进[1][12][19][20] * 全球CMP抛光材料市场（抛光液与抛光垫）格局高度集中，但新工艺的引入可能为行业带来新的竞争机会[2][29][36] * 中国CMP抛光材料市场增速快于全球，国内公司如安集科技、鼎龙股份等已实现技术突破和规模化生产，并在全球市场占据一定份额，未来随着国产化进程和向上游原材料延伸，市场空间有望进一步打开[4][42][53][55][67] 化学机械抛光行业简介及市场规模 * 化学机械抛光（CMP）是集成电路制造（硅片制造、晶圆制造）与先进封装中实现晶圆全局均匀平坦化的关键工艺[1][12] * CMP材料（抛光液、抛光垫、钻石碟、清洗液）合计约占晶圆制造总成本的7%[14] * 2025年全球CMP抛光液和抛光垫市场规模合计约为33.8亿美元，预计2025-2034年复合增速为4.5%[1][18] * 其中，全球CMP抛光液市场规模约20亿美元（2025-2034年CAGR 4.8%），全球CMP抛光垫市场规模约13.8亿美元（2025-2034年CAGR 4.1%）[18] * 2023年中国CMP抛光液市场规模约为29.6亿元，2017-2023年复合增速约为12.1%[1][18][22] * 2024年中国CMP抛光垫市场规模约23亿元[1][18] * 市场增长核心驱动力：1）工艺进步：更先进制程（如7nm及以下）抛光步骤显著增加（可达30步），使用抛光液种类接近30种；3D NAND堆叠层数增加也带动CMP材料需求增长[19][23]；2）先进封装：如硅通孔、混合键合等技术的应用，预计到2028年将带来额外15-20%的CMP需求增长[1][20] 化学机械抛光液分类及竞争格局 * CMP抛光液由磨料、添加剂和超纯水等复配而成，全球活跃配方超过300种[2][21] * 磨料是核心物理去除单元，主要包括氧化硅、氧化铈、氧化铝等；以安集科技为例，2023年其研磨颗粒采购成本约占公司CMP抛光液总成本的54.6%[2][24] * 按工艺步骤分类，主要包括铜及铜阻挡层（合计占市场规模约45%）、钨、层间介质、浅槽隔离等抛光液[2][25][26] * 全球市场格局高度集中，2024年全球头部6家公司市占率合计约85%[2][28] * 市场集中原因：磨料供应集中且与抛光液公司联合开发、产品验证周期长且客户关系稳固[28] * 新工艺带来新机会：例如在10nm以下技术节点，钴可能部分替代铜作为导线，钴抛光液供应商可能迎来增长机会[2][29] 化学机械抛光垫分类及竞争格局 * CMP抛光垫主要分为硬垫（聚氨酯材料，用于粗抛）、软垫（无纺布材料，用于精抛）和复合垫[3][36] * 按产品类型，2025年硬垫预计占全球CMP抛光垫市场的55%[3][36]；按晶圆尺寸，300mm（12英寸）抛光垫市场份额为60%[36] * 全球市场格局高度集中且垄断性更强，杜邦（Dupont）占据全球75%以上的市场份额，前4家龙头企业合计占据约90%的市场份额[3][36][41] * 日本富士纺（Fujibo）预计其2025年CMP抛光软垫市场份额约为80%[3][36] * 市场高度集中的原因：28nm之前制程对硬垫要求变化不大，龙头产品的一致性和稳定性至关重要，且下游晶圆厂引入新供应商动力不足[37] 国产CMP抛光液及抛光垫发展近况 * 安集科技（国内CMP抛光液龙头）： * 2024年CMP抛光液营收为15.5亿元，全球市占率约10%，占公司总营收比重84.2%[4][42] * 产品已实现全品类覆盖，包括铜及铜阻挡层、钨、介电材料、氧化铈基、衬底抛光液等，并积极布局钴抛光液等新材料[44][45][49] * 自研抛光液磨料，部分硅溶胶和氧化铈磨料已实现量产应用[49] * 产能方面，上海金桥及宁波北仑基地的CMP抛光液产能（含在建）合计约6.0万吨/年，上海化工区纳米磨料产能约500吨/年[4][50] * 鼎龙股份（国内CMP抛光垫龙头，横向拓展抛光液、清洗液）： * 2025年前三季度，公司CMP抛光垫、抛光液和清洗液营收合计10.0亿元，占公司总营收37.0%[4][53] * CMP抛光垫业务：实现了全品类、全技术节点布局；2025年前三季度抛光垫营收7.95亿元，同比增长52%；12英寸产品出货占比超80%[55] * 子公司鼎汇微电子（抛光垫生产主体）2023年净利润达1.8亿元，净利润率42.3%[55] * CMP抛光液及清洗液业务：2025年前三季度营收2.03亿元，同比增长45%；已布局近40种抛光液产品，并在多个细分领域取得突破[57][62] * 产能规划：预计2026年Q1末，武汉本部抛光硬垫年产能将提升至约60万片；潜江软垫及缓冲垫产能约20万片/年；抛光液及研磨粒子产能约2.5万吨；清洗液产能约1.2万吨[4][62] * 供应链安全：已实现抛光垫3大核心原材料自产，以及抛光液4大类主流纳米研磨粒子的产业化[63][65] * 其他国内公司： * 上海新阳：在CMP抛光液与清洗液领域有布局，产品可覆盖14nm及以上技术节点，规划总产能1.2万吨/年[4][65] * 彤程新材：布局CMP抛光垫，产能25万片/年，截至2025年9月末已从国内主要晶圆厂获得订单并开始交付[4][66] * 此外，上海新安纳、昂士特科技、麦丰新材料等公司也在相关产品领域有所布局[66] 小结及投资建议 * 随着国内半导体产能扩张、先进制程进步、新材料与新工艺发展以及先进封装演进，国内CMP公司将同步成长[5][67] * 目前国内CMP公司全球市占率仍较低，产品国产化及向上游原材料延伸有望进一步打开市场空间[67] * 报告建议关注行业龙头安集科技、鼎龙股份，以及持续拓展的上海新阳、彤程新材等公司[5][67]