制造纳米级元件的能力使得高性能设备的生产成为可能，并推动了许多行业的技术进步。 光刻技 术的进步通常围绕半导体研究和晶体管（可以改变电信号的微型元件）尺寸的不断减小展开，因此 越来越多的晶体管被塞入计算机芯片中，形成逻辑元件，以便在纳米级进行决策。最近，美国和欧 盟的支出凸显了持续进行晶体管研究的重要性。美国政府签署了一项2800亿美元的一揽子计划，即 《芯片与科学法案》，以刺激美国芯片业的发展；而欧盟则提议斥资500亿美元，到2023年将其芯 片产量翻一番。此外，台湾半导体制造公司决心通过开辟新的微芯片市场来跟上摩尔定律的步伐。 到2025年，该工厂将耗资330亿美元。然而，并非所有进步都仅仅集中在计算机处理能力上。例 如，在医疗保健行业，微型化已经带来了诸如使用腹腔镜摄像机进行微创手术等发展。用于即时诊 断的芯片实验室技术和改进的植入式设备。受益于这些进步的其他行业包括能源，通讯和感知。 光刻是一种能够在基板上形成结构图案的制造技术两种最常见的光刻技术是光刻（PL），它涉及 将光通过掩模施加到感光抗蚀剂上以生成结构和电子束光刻 (EBL)，其中电子扫描覆盖有敏感抗蚀 剂的表面，电子束打开和关闭以在所需位置 ...