光刻与刻蚀技术决定着集成电路精细化发展水平(光刻机篇)
势银芯链·2025-06-13 16:03
"宁波膜智信息科技有限公司"为势银(TrendBank)唯一工商注册实体及收款账户 势银研究: 势银产业研究服务 势银数据: 势银数据产品服务 势银咨询: 势银咨询顾问服务 重要会议: 7月9日-10日,2025势银(第五届)光刻产业大会(安徽合肥) 点此报名 添加文末微信,加 光刻胶 群 在半导体芯片集成高密化和线路精细化上,光刻与刻蚀承担着重要的工艺角色,尤其是在半导体前 道制程中,光刻机与刻蚀机分辨率很大程度上决定了集成电路精细化发展水平。在这里我们重点阐 述光刻产业话题。 | 制程 | 晶圆尺寸 | 金属材料 | 光刻机类型 | | --- | --- | --- | --- | | 0.5µm | 200mm | Al | g-line:436nm | | 0.35µm | 200mm | Al | i-line:365nm | | 0.25µm | 200mm | Al | KrF:248nm(stepper) | | 0.18/0.15µm | 200mm | Al | KrF:248(stepper&scanner) | | 0.13µm | 200/300mm | Al/Cu | ArF: ...