在阿姆斯特丹举行的欧洲技术研讨会上，台积电全球副总裁张晓强就记者提出的ASML尖端光 刻机遇冷问题作出回应。作为ASML的长期合作伙伴，台积电向来是新型光刻机的首批用户 ——以往新机尚未发布便被其预定。 然而，ASML新一代High-NA EUV光刻机却遭遇反常冷遇：全球迄今仅售出5台，台积电仅象 征性采购1台。这一异常动向引发行业震动。 在5月29日的内部会议中，台积电高管再度明确表态：1.4纳米级芯片制程无需依赖高数值孔径 （High-NA）EUV光刻机，目前尚未发现必须采购的技术动因。此举意味着台积电将暂缓引进 ASML新一代光刻设备。 为何曾经的核心合作伙伴此次选择拒绝？ 从台积电高管的发言可见， 直接诱因在于 ASML 新设备的天价定位——单台售价高达4 亿美 元（约合30 亿人民币） 。然而其性能并未实现代际突破，台积电高管随后强调："若高数值孔 径（High-NA）技术可提供可量化、具实质意义的收益，我们必然引入。但当前1.4纳米制程 的效能跃升，在未采用该设备时已相当显著。" 面对台积电加速"去台化"的战略抉择，路透社、日经新闻等国际媒体形成共识：全球半导体权 力结构正经历冷战后的最大洗牌， ...