会议核心内容 - 会议聚焦光刻技术产业链，涵盖极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [11] - 会议旨在通过产学研用融合，推动国内光刻技术自主创新，解决高端光刻胶、湿电子化学品、掩膜版和光刻机等领域的"卡脖子"问题 [19][20] - 会议设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖全产业链 [12] 会议亮点 - 20+光刻产业链嘉宾演讲，包括京东方、复旦大学、甬江实验室等机构专家 [7][8][9] - 学术研讨环节聚焦光刻技术理论基础，如导向自组装光刻工艺、混合键合技术等 [7][13] - 采用"会+展"形式，提供上下游供应链对接平台 [15] 会议议程 7月9日上午（先进光刻技术专场） - 主题包括：AI时代先进制程突破、TFT-LCD光刻胶技术、纳米压印/电子束/DSA技术方向、混合键合在异构集成中的应用 [7] - 演讲嘉宾来自合肥晶圆厂、京东方、南开大学、甬江实验室等 [7] 7月9日下午（光刻胶与湿电子化学品专场） - 议题涵盖：BARC/TARC应用、PSPI光刻胶产业化、硅基光刻胶开发、湿电子化学品关键技术 [8] - 参与企业包括彤程新材、永光化学、河北凯诺中星等 [8] 7月10日上午（掩膜版与光刻装备专场） - 讨论内容涉及显示掩膜版趋势、光刻设备中国机遇、涂胶显影设备产业化、光刻气体应用等 [9] - 演讲方包括深圳清溢光电、上海芯东来半导体、杭州中泰氢能等 [9] 参会机构与产业链覆盖 - 拟邀企业覆盖光刻胶产业链（东京应化、住友化学等）、湿电子化学品（德国巴斯夫、江化微等）、掩膜版（清溢光电、龙图光罩等）及设备（上海微电子、奥格流体等） [22][23][24] - 甬江实验室微纳平台作为重要参会方，拥有6/8英寸研发线及165台/套高端设备，专注光学器件与异构集成技术 [5] 会议基本信息 - 时间：2025年7月9日-10日 - 地点：合肥新站利港喜来登酒店 - 规模：300人 - 费用：早鸟价2600元/人（6月30日前），正常价2800元/人 [14][15] 行业背景 - 光刻技术是半导体制造核心环节，国内面临高端光刻胶自给率低、掩膜版原料依赖进口、EUV光刻机被垄断等挑战 [19] - 甬江实验室等机构正推动微纳光学与芯片异构集成技术研发，其8英寸验证线可支持高精度对准、低温键合等工艺 [5]