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高功率DC-DC应用设计新方案:DFN3.3x3.3源极朝下封装技术

以下文章来源于AOSemi ,作者新品速递 AOSemi . 集设计、开发生产与全球销售一体的功率半导体供应商。 专为高功率密度应用而设计的 DFN3.3x3.3 源极朝下封装,采用创新的栅极中置布局技术,可大幅简化 PCB 走线 设计。 日前,集设计研发、生产和全球销售为一体的著名功率半导体及芯片解决方案供应商 Alpha and Omega Semiconductor Limited(AOS, 纳斯达克代码:AOSL)推出采用DFN3.3x3.3源极朝下(Source Down)封 装技术的 AONK40202 25V MOSFET。该产品专为高功率密度DC-DC应用设计,可完美满足AI服务器和 数据中心电源系统的严苛需求。 AONK40202 的创新源极朝下封装技术,使源极与PCB有较大的接触面 积从而优化散热与电气性能,同时其栅极中置布局简化了PCB上走线设计,最大限度地减少栅极驱动器连 接,进一步提升能效与系统可靠性。 AONK40202 MOSFET 具有出色的电流处理能力,其采用带夹片(Clip)的 DFN3.3x3.3 源极朝下封装 技术,可提供高达319A 的持续电流,最高结温高达 175° ...