无需升级昂贵光刻系统,东丽发布负性PSPI 新产品
势银芯链·2025-07-18 09:17
东丽STF-2000光敏聚酰亚胺产品 - 东丽成功开发STF-2000光敏聚酰亚胺,可在200微米厚薄膜上实现30微米线宽加工(深宽比达7),并支持L/S=4μm以下高分辨率图案,适用于新型MEMS器件开发 [1] - 该产品不含NMP和PFAS,符合欧盟环保法规,预计2025年量产,厚膜片型正在开发中 [2] - 采用标准H线曝光系统即可形成复杂图案,无需升级至KrF或ArF光刻系统,降低中小厂商技术升级成本 [6] 产品技术特性对比 - STF-2000采用碱性水溶液显影,兼具耐热性(200μm厚度)、耐化学性、力学性能、绝缘性和抗X射线等结构优势 [9] - 对比非光敏材料:STF-2000在深宽比(7)、微加工能力(√)、耐热性(√)、化学抗性(√)等指标上全面优于环氧基/丙烯酸基材料,且溶剂环保性突出 [8] 行业应用与厂商动态 - 东丽是全球正性光敏聚酰亚胺市场化最成功的企业之一,STF-2000结合了正/负性配方双重优势 [7] - 精诚时代集团提供精密涂布模头解决方案,涵盖氢燃料电池、光学膜、锂电池等领域,加工精度达Ra≤0.02μm,直线度≤2μm/m [12] 研究机构背景 - 势银(TrendBank)是中国领先产业研究机构,提供数据、咨询及会议服务,聚焦产业链决策支持 [15][16]