点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 正文 光刻胶(Photoresist)，又称光致抗蚀剂 ，是一种对光(包括可见光、紫外线以及电子束等)敏感的混合液 体，通常由 树脂、感光组分(包括光引发剂、光增感剂、光致产酸剂)、溶剂及添加剂 组成。 光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加 工基片上。依据使用场景，待加工基片可以是半导体的硅片、显示面板的玻璃或者印刷电路板的金属。 此外，光刻胶的配套辅助材料还有 底部抗反射涂层(BARC)、顶部抗反射涂层(TARC)、旋涂碳材料 (SOC)、旋涂硅材料(SOG)以及增粘剂 等。光刻胶产业链示意图见图1。 一、世界和中国光刻胶市场总体情况 1.1世界光刻胶市场规模持续扩大，未来5年需求增速约为5％ 近年来，随着电子信息产业的发展和新兴应用领域的拓展，电视、笔记本电脑以及手机等终端应用促进 了对半导体芯片、显示屏等的需求，上游材料光刻胶市场总体处于稳定增长状态。 2022年，尽管半导体集成电路产业的快速发展，但新型显示产业需求大幅下滑，导致世界光刻胶市场规 模 ...