美国初创公司,目标直指EUV核心技术
半导体芯闻·2025-07-22 18:23
核心观点 - 硅谷初创公司xLight成功筹集4000万美元资金,致力于开发新型激光器原型,该技术有望颠覆全球芯片产业[2] - xLight的激光技术基于美国国家实验室的粒子加速器技术,将成为极紫外(EUV)光刻机的核心组件[2] - 该技术旨在解决晶圆厂的核心痛点,帮助芯片工厂更快、更便宜地生产更多先进芯片[3] - EUV光刻机领域存在中美竞争与供应链重塑问题,xLight致力于在美国及其盟国建立供应链[4] 技术突破 - xLight的激光技术源自美国国家实验室的尖端物理研究,与巨型粒子加速器使用相同技术[2] - 该技术将成为EUV光刻机的核心组件,而EUV光刻机是制造更小、更快芯片的主要工具[2] - 公司CEO表示这是晶圆厂中最昂贵的工具,对晶圆成本和产能影响最大[3] 行业影响 - 该技术有望帮助晶圆厂提升产能与效率,解决AI时代芯片供应不足的问题[3] - EUV光刻机开发耗时数十年,目前全球唯一供应商是欧洲的ASML[4] - 美国曾将EUV激光技术公司Cymer出售给ASML,被行业人士称为"可怕的错误"[4] 融资与供应链 - 本轮4000万美元融资由Playground Global领投,多家投资机构跟投[4] - 公司原型组件将主要来自美国国家实验室[4] - 公司明确表示要建立美国及其盟国的供应链,避免重蹈Cymer被收购的覆辙[4] 行业竞争 - 中国正在EUV技术领域大力投资[4] - 美国政府长期阻止EUV光刻机出口中国,称其为"最重要的一项出口管制"[4] - 行业人士强调"这次一定要做对",显示出该技术的地缘政治重要性[4]