在半导体领域，光刻机犹如"工业皇冠上的明珠"，其技术水平直接决定着芯片制程的极限。 如今，提及这一核心设备，ASML的名字几乎成为行业的代名词——这家来自荷兰的企业凭 借在高端光刻机领域的绝对掌控力，稳稳占据着全球市场的主导地位，尤其在EUV光刻机 领域，更是形成了一家独大的格局，成为全球芯片巨头们争相合作的对象。 然而，光刻机产业的版图并非生来如此。 回溯历史，佳能（Canon）与尼康（Nikon）这两个日本企业的名字，曾在该领域书写过辉煌篇 章。上世纪八九十年代，当半导体产业迈入光刻技术主导的时代，佳能与尼康凭借在步进式光刻 机、扫描式光刻机等领域的技术突破，一度占据全球市场的大半份额，是当时当之无愧的行业巨 头。那时的ASML，还只是在技术追赶中艰难突围的后来者。 然而，产业格局的剧变，往往与技术路线的选择紧密相连。 在专注于157nm波长的浸没式光刻技术，以及从DUV（深紫外）向EUV（极紫外）技术跨越的关 键节点，佳能与尼康因对技术路线的判断偏差，逐渐在竞争中落入下风。ASML则抓住机遇，通 过整合全球技术资源、押注EUV路线，一步步实现了对前辈的超越，最终奠定了如今的霸主地 位。 曾经的行业王者， ...