国产电子束光刻机突破 - 全国首台国产商业化电子束光刻机"羲之"在杭州正式亮相，由浙江大学余杭量子研究院自主研发，已完成研发并进入应用测试阶段 [2] - "羲之"是新一代100kV电子束光刻机，专攻量子芯片和新型半导体研发，精度达0.6纳米，线宽仅8纳米，比肩国际主流设备 [4] - 该设备无需掩模版，可多次修改设计，在原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势，极大提升芯片研发初期反复调试效率 [4] - 此前先进电子束光刻机受国际出口管制，国内无法采购，"羲之"的落地打破了这一困局，已与国内企业及多家科研机构展开接洽 [4] 技术特点与优势 - 设备外观酷似大型钢柜，通过高能电子束在硅基上"手写"电路 [4] - 相比传统光刻机，电子束光刻机在精度和"书写"便捷性方面表现突出，特别适合芯片研发初期的多版型设计和图案修改 [4] - 该设备解决了国内顶尖科研机构和企业长期无法获得先进电子束光刻机的难题 [4]