三星电子1c DRAM产能扩张计划 - 公司正致力于确保第六代10纳米级1c DRAM产能 计划于明年上半年完成平泽第四园区P4的1c DRAM设施投资 并对包括P3在内的现有工厂进行投资转换[2] - P4工厂分为四个阶段 P1和P3投资已完成 P4的DRAM设施投资正在进行中 剩余PH2洁净室计划最早于今年年底或明年年初开工建设[2] - 1c DRAM是最新一代DRAM 计划在今年下半年实现量产 将用于HBM4并计划于明年全面实现商业化[2] 产能具体规划与进展 - 公司正在华城17号线进行1c DRAM转换投资 预计今年1c DRAM产能最高可达每月6万片[3] - 明年上半年1c DRAM产能将继续扩大 因P4工厂最后一条量产线的投资即将完成 且1c DRAM设施投资可在现有平泽园区内进行[3] - 公司目前正与合作伙伴讨论明年将投资转向P3等1c DRAM的计划 相关设施投资将随着良率和性能稳定而加速[3] 投资背景与战略考量 - 公司积极扩大1c DRAM产能是为HBM4商业化做准备 而NAND和代工的投资计划被推迟 因缺乏足够稳定需求证明扩大产能合理性[3] - 生产线将主要量产1c DRAM P4的PH2虽最终用途未确定 但业界预计将建成DRAM量产线[2]