投资规模与设备引进计划 - SK海力士计划大规模引进极紫外光刻设备，目标是在未来两年内追加20余台，使公司EUV设备总数实现翻番，从现有的约20台增至约40台 [1] - 每台EUV设备价值在3000亿至5000亿韩元之间，按此计算，此次投资规模预计至少在6万亿韩元以上 [1] - 新增设备将陆续安装在清州M15X工厂和利川M16工厂，其中M15X工厂计划在2024年底投产并率先配置EUV设备 [1] 战略目标与技术应用 - 此次大规模投资EUV设备被视为加强下一代DRAM和高带宽存储器制造能力的战略举措 [1] - 采用EUV光刻技术能够刻画10纳米级别的超微细电路，从而提升单位晶圆的芯片产出，并增强能效与性能 [2] - 新增产能将优先用于强化HBM4所用的10纳米级第5代DRAM以及正在准备量产的第6代DRAM的制造竞争力，这些产品将成为公司明年的核心业务 [2] 行业地位与竞争格局 - 全球EUV设备由荷兰ASML垄断供应，设备获取极其困难 [1] - 若成功追加20台EUV设备，SK海力士将跻身全球EUV设备保有量前三，与英特尔相当甚至超过 [2] - 截至2023年底，拥有EUV设备数量最多的公司是台积电，其次是三星电子、英特尔、SK海力士和美光 [1] 产业链影响 - 超过6万亿韩元的设备投资将带动EUV专用光刻材料与部件的需求增长，如专用光刻胶和清洗液 [3] - SK海力士的EUV光刻胶主要从JSR、杜邦、SK Materials Performance等公司采购，EUV清洗液则由默克、YCChem等供应商提供 [3] - 公司已就扩大材料与零部件供应与合作伙伴展开讨论 [3] 技术发展路线图 - 公司自2021年在制造第4代DRAM时首次引入EUV后，逐步增加设备数量 [2] - 未来，第7代DRAM以及更先进的10纳米级以下DRAM也将导入EUV工艺，业内预期公司最快将在2025年启动第7代DRAM的量产转移 [2]