会议基本信息 - 第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2025）将于2025年10月14日至15日在中国深圳五洲宾馆举行 [3][4] - 会议由中国集成电路创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟等机构联合承办 [3][5] - 会议旨在构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻等全产业链的尖端技术对话平台 [3] 会议议程与专题设置 - 会议为期两天，设置多个并行专题会场，涵盖光刻技术全产业链 [9][11][13][14][15][16] - 专题议题包括图形化工艺、人工智能与工艺、计算光刻、掩模设备与优化、X射线计量、光刻胶与材料等 [12][13][14][15][16] - 会议安排包括开幕致辞、主题报告、邀请报告、墙报展示及晚宴等活动 [11][12] 参会机构与专家 - 参会机构包括全球领先的半导体设备商、材料商、制造商及科研院所，如ASML、KLA、Siemens、Hitachi High-Tech、Carl Zeiss、复旦大学、清华大学等 [12][13][14][15][16][25][28][29][30][31][32][33][36][37][38][39][40][41][42][43][44] - 会议邀请到多位业界知名专家做主题报告，如D2S公司的Linyong (Leo) Pang、复旦大学的Qiang Wu、香港中文大学的Bei Yu等 [12][48][51] 技术前沿与热点 - 会议重点关注先进制程节点技术，包括面向2纳米及以下逻辑技术节点的高数值孔径EUV光刻成像特性研究 [12][13][15] - 人工智能与机器学习在半导体制造中的应用是重要议题，涉及晶圆制造、掩模合成、良率增强、计量检测等环节 [12][13][15][16] - 计算光刻技术，如逆光刻技术、光源掩模协同优化等，是会议的核心讨论内容 [12][13][14][15] 论文与学术交流 - 本届IWAPS接收的论文将被送至SPIE Digital Library进行检索，并有机会被EI收录 [23] - 会议设置墙报交流环节，展示来自长江存储、华虹宏力、复旦大学、浙江大学等机构的最新研究成果 [17][18][19][20][21]