文章核心观点 - 半导体晶圆厂设备（WFE）市场在产能过剩和地缘政治驱动的重复建设背景下，仍保持稳定增长，预计到2030年总规模将达到1840亿美元，其中设备1510亿美元，服务330亿美元，2024-2030年设备和服务复合年增长率分别为4.6%和4.8% [2] - 市场增长由技术主权和供应链韧性需求驱动，而非纯粹的终端市场逻辑，导致设备供应商受益于地缘政治造成的市场扭曲 [4][7] - 市场竞争格局高度集中，"五大巨头"（ASML、应用材料、泛林集团、东京电子、科磊）在2024年合计占据近70%市场份额，ASML凭借EUV光刻领先地位占据约20%份额 [15] - 行业创新由器件架构演进驱动，逻辑器件向GAA和CFET转变，DRAM采用EUV光刻，NAND向多层堆栈发展，设备供应商需提供多功能、模块化解决方案以保持竞争力 [19][25][26] WFE市场现状与预测 - 行业面临严重产能过剩和晶圆厂利用率低下，但设备投资持续，因政府和企业在技术主权和供应链韧性优先于短期盈利能力 [4] - 多地重复建设本地制造生态系统导致晶圆厂冗余，抑制芯片制造商短期回报，但支撑WFE工具需求 [7] - 2030年WFE市场总规模预计1840亿美元，2024-2030年设备出货量复合年增长率4.6%，服务出货量复合年增长率4.8% [2] 竞争格局 - "五大巨头"市场集中度显著，2024年合计占近70%份额，反映行业资本密集、技术专长和长期关系的高进入壁垒 [9][10][15] - ASML在2023-2024年稳居龙头，份额约20%，主导EUV光刻领域；应用材料2022年份额略低于20%，优势在沉积和材料工程；泛林集团和东京电子各占约10%，强项在蚀刻和沉积；科磊份额约7%，为检测和计量标杆 [15] 设备技术细分 - 2024年图案化设备占主导，占市场26.5%，其次为沉积、蚀刻与清洗、量测与检测 [12] - 2024-2030年各技术复合年增长率：蚀刻和清洗最快达5.5%，图案化4.7%，沉积4.0%，计量和检测4.3%，减薄和化学机械抛光4.3%，离子注入最慢2.0%，晶圆键合最快10.4% [16] - 晶圆键合增长迅速，因应先进封装需求；蚀刻和清洗高增长由器件微缩驱动 [16][24] 器件应用驱动 - 2024-2030年资本支出以≤7纳米先进逻辑器件为主导，复合年增长率7%，凸显尖端逻辑在推动WFE需求的核心作用 [15] - 其他增长应用包括DRAM（受益EUV光刻采用）、7纳米以上逻辑工艺、NAND存储器（超晶格层和多层堆栈创新）、专用器件（非硅材料和定制架构） [17] 行业创新趋势 - 逻辑器件从FinFET向GAA、带供电GAA网络、CFET演进；DRAM采用EUV并向4F²密集架构发展；NAND规模扩大，层数增加，可能向多堆栈过渡；专用器件扩展非硅材料应用 [25] - 创新驱动因素包括先进存储器和逻辑封装、工程晶圆和光掩模、先进封装方案发展 [24][25] - 设备供应商竞争焦点为工艺多功能性、技术改进（内部开发或合作并购）、设备形态多样化（如湿法与干法处理、单晶圆与多晶圆平台） [26]