文章核心观点 - 新凯来公司若能在展出中突破3nm工艺将是一个具有战略意义的事件 可能改变当前半导体领域的竞争格局 [1] - 半导体领域摆脱光刻瓶颈将削弱西方的关键制约手段 结合稀土优势可能实现攻守换位 [1] - 新凯来的崛起对半导体行业是长效逻辑 对设备零部件上游产业链和半导体制造耗材是长期利好 [1] 技术突破与战略意义 - 新凯来ALD "阿里山"原子层沉积设备针对5nm以下原子级薄膜沉积 武夷山系列刻蚀设备支持5nm以下先进制程 [1] - 公司通过自研SAQP技术与华为海思算法优化 成功将DUV光刻机精度提升300% 实现5nm制程 [1] - 公司与中芯国际合作完成5nm逻辑芯片试产 晶圆良率达85% 逼近台积电EUV工艺的90% [1] - 中芯国际计划2025年用新凯来的工艺进行5nm风险试产 [1] 行业影响与市场前景 - 国内算力需求因缺乏高端芯片而被压抑 高端制备能力快速扬升将释放惊人算力 [1] - 新凯来技术突破将利好半导体设备零部件上游产业链和制造耗材领域 [1]