全球首个六层堆叠CMOS,来了
半导体行业观察·2025-10-19 10:27
公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 通常,芯片制造过程需要几百摄氏度的高温,这可能会在添加新层时损坏底层结构。而KAUST团队 的制程中,所有步骤的温度均未超过150°C,大部分工序甚至在室温下完成。 此外,层与层之间的表面必须尽可能平整。该团队在新设计中优化了制程,使表面比以往工艺更加光 滑。对于垂直堆叠,层间还需精准对齐以确保最佳连接,研究人员在这一环节也实现了显著改进。 论文第一作者、博士后研究员萨拉瓦南·尤瓦拉贾(Saravanan Yuvaraja)表示:"芯片设计的核心, 就是在更小的空间内实现更强的性能。通过对多个制造步骤的优化,我们提供了一套可行蓝图,能够 在垂直方向上扩展,并让功能密度远超当今极限。" 此 外 , KAUST 教 授 马 丁 · 希 尼 ( Martin Heeney ) 与 兼 职 教 授 托 马 斯 · 安 托 普 洛 斯 ( Thomas Anthopoulos)也参与了该研究。 来 源: 内容来自 techxplore 。 沙特阿拉伯阿卜杜拉国王科技大学(KAUST)的研究团队在芯片设计领域创下纪录,成功实现了全 球首个六层堆叠式混合CMOS(互补金属氧化 ...