三星宣称2nm良率大突破!
国芯网·2025-10-22 21:12
三星2纳米GAA制程技术进展 - 公司对2纳米GAA制程进展高度乐观,技术高层给予极高评价 [2] - 公司将2纳米GAA的良率目标从原定的50%大幅提高至70% [4] - 公司计划在2025年底实现70%的良率目标 [4] 三星晶圆代工业务竞争态势 - 公司晶圆代工业务市场份额此前被台积电大幅领先,但目前情况有所转变 [4] - 公司高层暗示希望借助2纳米GAA节点的成功,在全球晶圆代工市场中夺取第一的位置 [4] - 公司坦言在追赶台积电及应对技术和人力挑战方面需要政府提供强有力的支持 [4] 三星2纳米GAA技术产品应用 - 公司首款采用2纳米GAA技术的芯片将是其自研Exynos 2600 [5] - 初步内部测试结果显示Exynos 2600性能超越了竞争对手苹果的A19 Pro和高通的第五代骁龙8至尊版 [5]