IWAPS的使命与定位 - IWAPS成立于2017年，核心使命是填补国内先进光刻技术领域全球化专业交流平台的空白，促进国内技术快速追赶国际先进水平[3] - 致力于打造国际化、高层次技术交流平台，汇聚全球顶尖学者、头部企业及产业链代表，推动计算光刻、DTCO、EUV等前沿技术在中国本土落地[3] - 已成为国内规模最大、国际化程度最高的光刻技术峰会，是连接中国与世界光刻创新体系的重要桥梁[3] IWAPS的产业价值与学术价值 - 为国内外半导体工业界、学术界的资深专家提供技术交流平台，涵盖材料、设备、工艺、测量等主题[4] - 作为连接全球光刻产业链的枢纽，得到四十多家国内外顶尖集成电路企业支持，其中国际头部企业赞助商占比达53%，国内企业占比47%[4] - 会议规模持续扩大，从最初200多人的中型论坛发展为参会人数超过700人的大型国际峰会，会议上分享的报告超百篇[11] - 会议论文被IEEE/SPIE收录，并设置“Best Poster”奖项鼓励青年学者，每年有数百名青年学者获得与国际知名专家、企业总裁现场交流的机会[11] - 与会议举办地产业部门深度协同，在南京、成都、佛山、丽水、深圳等产业核心区构建区域性创新枢纽，激活区域产业生态[8][9] 韦亚一教授的领导作用 - 韦亚一教授作为IWAPS大会的灵魂人物，是中国科学院大学特聘教授，长期从事半导体光刻领域研发，拥有丰富的产业化经验[15] - 在中美贸易战及西方技术封锁的困境下，坚定指出先进光刻技术是打破发展困境的关键，并克服困难坚持举办第三、第四届会议[16] - 在疫情期间采用线下交流、线上互动的方式，成功举办第五届和第六届会议，为国内行业发展注入动力[16] - 自2024年起，代表IWAPS组委会与SPIE签订合作办会协议，会议成功列入SPIE会议名录，标志着会议发展登上新台阶[18]