掩模版是半导体自主可控的关键一步 - 掩模版是半导体生产制造过程中不可或缺的材料，其工作原理是将设计好的电路图形通过光刻等工艺绘制在掩模版上，再通过曝光转移到硅晶圆等基体材料上，实现集成电路的批量化生产 [10] - 半导体掩模版是技术要求最高的掩模版品类，其最小线宽达0.5µm，CD精度及均值偏差均为0.02µm，显著高于平板显示和PCB掩模版的要求 [12] - 从下游应用结构看，IC制造占据掩模版市场份额的60%，是最大的应用市场，而高端半导体掩模版主要被美国和日韩厂商垄断，因此其国产化对产业链具备重要战略意义 [2][15] 全球及中国掩模版市场空间 - 掩模版是核心半导体材料之一，2021年占全球半导体材料市场的12%，仅次于硅片和电子特气 [3][25] - 全球半导体掩模版市场规模有望在2025年达到60.79亿美元，同比增长7% [4][26] - 中国大陆半导体掩模版市场规模从2017年的9.12亿美元增长至2022年的15.56亿美元，2017-2022年复合增速达11.3%，2023年进一步增至17.78亿美元，同比增长14.27% [4][30] - 中国大陆是全球第二大半导体材料市场，2024年占全球市场的19.95% [23] 掩模版市场格局与生产 - 掩模版大部分由晶圆厂自供，占比达65%，第三方市场主要被美日厂商垄断，其中Toppan、福尼克斯、DNP分别占11%、10%、8% [19] - 掩模版生产流程包括CAM图档处理、光阻涂布、激光光刻、显影、蚀刻等环节 [17] - 随着制程提升，所需掩模版层数增加，台积电130nm制程需约30层掩模版，而14nm/10nm制程则需约60层 [33] - 先进制程推高掩模版成本与复杂度，16/14nm SoC所需掩模版成本约500万美元，占整体成本1.5%，而7nm SoC成本增至1500万美元，占比升至2.5% [41] 空白掩模版是核心原材料 - 空白掩模版是半导体光掩模版的核心部件，其基本结构是在石英面板上镀一层光学薄膜（如铬、硅化钼） [5][44] - 空白掩模版是构成光掩模版的主要成本项，根据龙图光罩数据，2021-2023年采购原材料中空白掩模版占比分别为64%、58%、53% [5][46] - 按基板材料分类，掩模版主要包括高精度的石英掩模版（用于功率半导体、MEMS传感器等）和中低精度的苏打掩模版 [45] - 2024年全球空白掩模版市场规模约为18亿美元，中国大陆市场规模约为4亿美元（约28亿元人民币） [5][62] 空白掩模版技术壁垒与竞争格局 - 空白掩模版生产工艺存在诸多技术难点，高端产品要求基板杂质含量极低，对光学性能、缺陷控制要求极高 [51] - 最先进的EUV掩模版制造难度大，缺陷必须接近零水平，且需降低3D效应 [52] - 全球空白掩模版市场主要被日本厂商垄断，包括HOYA、信越、AGC等，其中HOYA在EUV和DUV空白掩模版市场均占据主导份额 [7][53][55] - 韩国厂商如S&S Tech、SKC等处于追赶阶段 [8][53] 空白掩模版国产化现状与机遇 - 国产空白掩模版供应商产品主要集中于平板显示、PCB、成熟制程IC等领域，在G6及以下掩膜基板已基本实现国产化，但在大尺寸、中高端小尺寸及半导体空白掩模版领域仍依赖进口 [60] - 中国大陆庞大且增长的晶圆产能为空白掩模版国产化提供空间，截至2025年8月，中国大陆晶圆产能达259万片/月，其中先进制程产能16.7万片/月 [61] - 聚和材料拟通过收购韩国SK Enpulse的空白掩模业务介入该领域，收购金额约680亿韩元（折合约3.5亿元人民币），以弥补国内高端空白掩模版的缺失 [8][66][67]