佳能光刻机产品更新 - 公司约14年来首次更新升级光刻机产品线 [2][4] - 新机型为用于成熟制程的氟化氪光刻机 最早将于2026年初发售 [2] - 公司还计划于2026年初推出支持更微细电路的ArF干式光刻机 [4] 新产品性能与市场定位 - 新机型半导体晶圆处理能力达到每小时400片以上 [4] - 新机型处理能力较2012年发售的老款机型提升了三成 [2][4] - 产品更新旨在抓住运算用逻辑半导体及存储器厂商的旺盛需求 [4] - 公司在氟化氪光刻机领域占据30%的全球市场份额 [2][4] 行业竞争格局 - 公司在光刻机领域与荷兰阿斯麦控股等企业存在竞争关系 [4]