新型半导体材料,重要进展
财联社·2026-01-15 11:19
面对这一挑战,研究团队独辟蹊径,创新性地提出并发展了一种引导晶体内应力"自刻蚀"的新方法。研究人员发现,二维钙钛矿单晶在生长 过程中会自然累积内部应力,团队巧妙设计了一种温和的配体-溶剂微环境,能够选择性地激活并利用这些内应力,引导单晶在特定位置发 生可控的"自刻蚀",从而形成规则的方形孔洞结构。随后,通过快速外延生长技术,将不同种类的半导体材料精准回填,最终在单一晶片内 部构筑出晶格连续、界面原子级平整的高质量"马赛克"异质结。 "这种全新的加工方法,不是通过'拼接'不同材料,而是在同一块完整晶体中,引导它自身进行精密的'自我组装'。 "张树辰解释道,"这意 味着,未来我们有可能在一块极薄的材料上,直接'生长'出密集排列的、能发出不同颜色光的微小像素点,为未来的高性能发光与显示器件 的发展,提供一种全新的备选材料体系和设计思路。" 研究人员表示,此项研究首次在二维离子型材料体系中,实现了对横向异质结结构的高质量、可设计性构筑,突破了传统工艺的局限,其展 现的驾驭晶体内应力与动力学新范式,实现了单晶内部功能结构的可编程演化,为研究理想化界面物理提供了全新平台,也为低维材料的集 成化与器件化开辟了新的路径。 据 ...