会议概况 - 2026势银（第六届）光刻产业大会将于2026年6月24-25日在杭州大会展中心假日酒店举办，会议主题为“光刻生态协同发展” [2] - 会议将涵盖先进光刻技术、半导体光刻、显示光刻、封装光刻、PCB光刻、掩膜板、光刻机等上中下游全产业链环节 [2][7] - 会议采用“会+展”形式，旨在构建产业互动平台，提供上下游供应链对接 [13] 会议核心议题与产业现状 - 会议设立五大核心专场，覆盖全产业链技术与应用场景 [4] - 先进光刻技术专场：聚焦EUV光刻、电子束光刻与纳米压印技术，三者均面临材料、装备、工艺协同瓶颈 [4] - EUV光刻距离量产尚远，受高功率光源、原子级超精密光学、热管理与系统集成制约 [4] - 电子束光刻分辨率高但量产效率低，多束并行存在串扰与校正难题，核心部件与软件依赖进口 [4] - 纳米压印成本低但难以满足先进制程量产，存在模板寿命短、缺陷与套刻精度难控等问题 [4] - 半导体光刻技术与材料及装备专场：围绕半导体光刻胶及其原料、核心装备国产化展开 [5] - 目前高端KrF、ArF光刻胶量产一致性与良率偏低，设备高度依赖进口，配方与工艺差距显著 [5] - 显示光刻技术与材料及装备专场：聚焦新型显示面板光刻工艺 [5] - 高端配方与工艺差距大，对高世代、OLED、柔性显示的适配性不足，量产一致性与良率偏低 [5] - PCB光刻技术与材料及装备专场：深耕高密度互连PCB光刻工艺 [5] - 高分辨率干膜光刻胶、IC载板用高端产品及高端阻焊油墨仍被国外企业垄断 [5] - AI服务器对PCB提出超高规格要求，对现有工艺及钻孔、压合等设备的精度和稳定性构成巨大考验 [5] - 掩模版与光刻机及零部件专场：研究高精度光刻、掩模版技术趋势、光刻机等 [6] - 高端掩模版原料主要依赖进口，供应受制于人，其快速修复和更新技术有待提升 [6] - 光刻机被国外垄断，高端光刻机如EUV光刻机难以获得，国内企业在技术水平、制造精度、光源系统等方面与国际先进水平存在较大差距，是制约产业发展的“卡脖子”环节 [6] 会议议程亮点 - 会议首日将举办先进光刻技术专场，报告话题包括计算光刻与协同优化、电子束光刻应用、纳米压印技术突破、高数值孔径EUV光刻的挑战与国产化路径，以及下一代光刻新范式探索 [11] - 会议次日将举办半导体光刻技术与材料专场，报告话题包括2026年中国大陆光刻胶市场分析、2.5D/3D集成光刻工艺挑战、DUV光刻胶国产替代、BARC及旋涂碳材料重要性、PSPI光刻胶开发难点、光刻胶原料要求及高产能涂胶显影均匀性控制技术 [11] - 会议次日还将举办大板级光刻技术与材料专场，聚焦显示面板与PCB，报告话题涵盖TFT-LCD阵列光刻胶、新型显示及先进封装用光热固化材料、高世代OLED显示光刻胶国产化、彩色光刻胶色浆技术自主化、显示光刻胶配套试剂产业化及光敏聚合物在MLED面板中的应用 [11] 会议其他信息 - 会议提供三种票务类型：早鸟票2300元/人、臻享票2800元/人、现场票3000元/人，均不含住宿 [12] - 在2026年5月26日前报名付款可享受早鸟优惠价，面板及终端企业有机会申请免费门票（限额50人） [12] - 会议亮点包括势银分析师发布深度产业报告、五大专场覆盖光刻最全话题，以及通过“会+展”形式获取行业认知和人脉链接 [13]