公司技术进展 - 英特尔公司取得一项关于“用于高级集成电路结构制造的蚀刻停止层形貌”的专利 [1] - 该专利的授权公告号为CN109860101B [1] - 该专利的申请日期为2018年10月 [1] 行业技术领域 - 该专利涉及高级集成电路结构的制造技术 [1] - 专利技术聚焦于蚀刻停止层的形貌控制 [1]