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12英寸原子层沉积工具(Performa Uniflash Series)
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中微公司:蚀刻与沉积产品扩张,受益于存储和逻辑产能增长;买入
2025-09-26 10:29
公司及行业信息 **涉及的行业或公司** * 公司为中微公司(AMEC 688012 SS) 属于半导体设备行业[1] * 行业为中国半导体资本支出及逻辑和存储芯片客户产能扩张[1] 核心观点与论据 **业务扩张与产品升级** * 公司在CSEAC展会上推出六款新产品 覆盖刻蚀 原子层沉积(ALD)和外延(EPI)工艺[1] * 产品线从刻蚀扩展到薄膜沉积 量测和检测设备[2] * 推出新一代高深宽比刻蚀机(Primo HD-RIE) 增强架构以实现高效率和高精度刻蚀 并提供更好的温控[2] * 发布用于先进逻辑客户的12英寸ALD设备(Performa Uniflash系列) 在薄膜均匀性和污染控制能力方面表现优异[2] * 公司向高端产品迁移 新产品开发周期加速至2年或更短(此前为3-5年)[1] **市场机遇与增长动力** * 预计中国半导体资本支出在2025年 2026年将分别同比增长5% 达到400亿美元和420亿美元[1] * 增长动力源于中国市场上逻辑和存储芯片客户的产能扩张[1] * 公司是提供平台化解决方案(刻蚀 沉积 量测 检测等)的主要受益者之一 手握坚实订单[1] **财务预测与估值** * 基于更高的刻蚀和沉积设备收入 将2026-2028年盈利预测上调1% 1% 2%[3] * 毛利率预测基本保持不变 运营费用率因规模优势带来的效率提升而下调0.2 0.1 0.2个百分点[3] * 采用贴现市盈率法 将12个月目标价上调至340元人民币(原为299元)[7] * 目标倍数基于其长期EPS增长与全球同行P/E对EPS增长相关性的比较 现为34倍2029年预测市盈率(对应22%的2029年预测净利润增长)[7] * 维持买入评级 当前股价280元人民币 潜在上行空间21.4%[16] **财务数据** * 2025E 2026E 2027E 2028E营收预测分别为127.98亿 166.79亿 208.26亿 255.38亿人民币[7] * 2025E 2026E 2027E 2028E净利润预测分别为22.63亿 38.63亿 52.23亿 67.41亿人民币[7] * 2025E 2026E 2027E 2028E每股收益(EPS)预测分别为3.61元 6.17元 8.34元 10.77元人民币[7] * 2025E 2026E 2027E 2028E毛利率预测分别为41.9% 43.3% 44.2% 44.9%[7] * 2025E 2026E 2027E 2028E营业利润率预测分别为15.4% 22.7% 26.0% 28.7%[7] * 2025E 2026E 2027E 2028E净利率预测分别为17.7% 23.2% 25.1% 26.4%[7] 其他重要内容 **风险因素** * 若贸易限制扩大至成熟制程晶圆厂 将进一步减少对公司产品的需求[14] * 公司供应可用于海外5nm产线(先进制程)的刻蚀设备 若其供应能力受阻 将带来下行风险[14] * 中国主要晶圆厂资本支出弱于预期[14] **公司持股及业务构成** * 高盛集团在该报告发布前一月末 持有中微公司1%或以上已发行普通股[25] * 公司营收构成主要包括刻蚀设备 MOCVD设备 零部件 维护及其他[8]