技术突破 - 提出全新局部鲁棒图像水印方法MaskMark，支持多水印嵌入、精准定位篡改区域和灵活提取局部水印[3][6][7] - 核心创新在于引入掩码机制，训练时明确标注水印位置，实现精准嵌入和提取[5][11] - 支持32/64/128比特自适应水印长度，而竞品WAM仅支持32位[7][20] 性能表现 - 全局水印任务中保持PSNR>39.5和SSIM>0.98的高视觉保真度，比特准确率近乎100%[13] - 局部水印任务中在不同大小区域均保持近乎100%提取准确率，显著优于WAM等基线模型[14] - 水印定位性能（IoU衡量）全面优于EditGuard和WAM，其中MaskMark-ED在小区域定位更具优势[16][17] 效率优势 - 训练成本仅为WAM的1/15，在单个A6000 GPU上训练20小时即可完成[4][22] - 计算效率达7.74×10^14 TFLOPs，较WAM的1.13×10^16 TFLOPs提升15倍[20][22] - 推理时间仅需0.031秒，内存占用2.21GB，与WAM相当但功能更全面[20] 应用特性 - 支持单图像嵌入多达5个不同水印，且保持强大提取和定位性能[18][19] - 可通过简单调整失真层或少量微调（仅需20k训练步数）适应新兴威胁[21][23] - 同时适用于整体图像保护版权声明和局部敏感内容保护隐私感知场景[8]