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Excelliance MOS Adopts Silvaco DTCO Flow for the Development of Next-Gen Silicon Carbide Devices
Globenewswire· 2025-05-06 21:15
文章核心观点 Silvaco宣布Excelliance MOS采用其DTCO流程加速下一代碳化硅功率器件开发,该流程可提升器件和电路性能优化、缩短开发时间,助力Excelliance MOS更快将创新电源解决方案推向市场 [1][3] 分组1:合作情况 - Excelliance MOS采用Silvaco的DTCO流程,包括Victory TCAD™和UTMOST IV™,以加速下一代碳化硅功率器件的开发 [1] 分组2:采用原因 - 随着高效电力电子需求增长,Excelliance MOS利用Silvaco先进DTCO平台简化碳化硅技术研发,其Victory Process™和Victory Device™模拟器可提供逼真工艺和精确器件模拟 [2] - Silvaco的DTCO流程结合Victory TCAD、UTMOST IV和Victory DoE,为Excelliance MOS提供强大且用户友好的解决方案,能增强器件和电路性能优化、缩短开发时间 [3] 分组3:工具作用 - Victory DoE可快速探索工艺变化,UTMOST IV可实现自动电气测量和SPICE模型提取,加速表征和电路级建模,二者共同助力Excelliance MOS高效设计、模拟和改进下一代碳化硅器件 [3] 分组4:公司优势 - Silvaco的模拟解决方案技术无关,支持多种应用,其工具具有以用户为中心的特点,可让工程师更快速准确地创新 [4] 分组5:公司介绍 - Silvaco是提供TCAD、EDA软件和SIP解决方案的公司,其解决方案用于半导体和光子学等领域开发,公司总部位于加州圣克拉拉,在全球多地设有办事处 [5]
ProMOS Adopts Silvaco Victory TCAD Solution for the Development of Next-Gen Silicon Photonics Devices
Newsfilter· 2025-04-02 19:30
公司业务动态 - ProMOS Technologies公司采用Silvaco的Victory TCAD™仿真解决方案以加速下一代硅光子器件的开发[1] - 此次合作旨在通过利用Silvaco的尖端技术提升ProMOS光子器件设计的准确性、效率和可靠性[1] 产品技术优势 - Victory Process™是一种全面的、与技术无关的仿真解决方案能够对蚀刻、沉积、氧化、注入和扩散等实际制造步骤进行精确建模[2] - 与简单仿真工具不同Victory Process能详细准确地呈现半导体制造过程确保仿真结果与实际生产工艺高度匹配[2] - Victory TCAD解决方案支持光子学、CMOS、功率器件、存储器和显示技术等广泛的前沿应用[3] - 该解决方案具备用户友好界面、自动化能力和先进仿真功能可实现高效的工艺优化、快速的设计迭代和稳健的实验设计实施[3] - Victory TCAD提供了一个全面的仿真环境使客户能够考虑工艺变化以优化器件性能同时探索光子学和半导体创新的新领域[4] 市场与合作评价 - ProMOS公司副总裁Lynn Lin表示Silvaco的产品领导力、服务和技术支持是选择其进行光子器件开发的关键因素有助于加速创新步伐[4] - Silvaco公司TCAD业务部高级副总裁Eric Guichard认为此次合作凸显了市场对硅光子学领域先进仿真解决方案日益增长的需求[4] 公司背景信息 - Silvaco集团是一家提供TCAD、EDA软件和SIP解决方案的供应商致力于通过软件和创新推动半导体设计与人工智能发展[5] - 公司的解决方案应用于显示、功率器件、汽车、存储器、高性能计算、光子学、物联网以及5G/6G移动市场等领域的复杂SoC设计中的工艺和器件开发[5] - Silvaco总部位于加利福尼亚州圣克拉拉并在北美、欧洲、巴西、中国、日本、韩国、新加坡和台湾设有办事处拥有全球业务布局[5]