文章核心观点 Silvaco宣布Excelliance MOS采用其DTCO流程加速下一代碳化硅功率器件开发，该流程可提升器件和电路性能优化、缩短开发时间，助力Excelliance MOS更快将创新电源解决方案推向市场 [1][3] 分组1：合作情况 - Excelliance MOS采用Silvaco的DTCO流程，包括Victory TCAD™和UTMOST IV™，以加速下一代碳化硅功率器件的开发 [1] 分组2：采用原因 - 随着高效电力电子需求增长，Excelliance MOS利用Silvaco先进DTCO平台简化碳化硅技术研发，其Victory Process™和Victory Device™模拟器可提供逼真工艺和精确器件模拟 [2] - Silvaco的DTCO流程结合Victory TCAD、UTMOST IV和Victory DoE，为Excelliance MOS提供强大且用户友好的解决方案，能增强器件和电路性能优化、缩短开发时间 [3] 分组3：工具作用 - Victory DoE可快速探索工艺变化，UTMOST IV可实现自动电气测量和SPICE模型提取，加速表征和电路级建模，二者共同助力Excelliance MOS高效设计、模拟和改进下一代碳化硅器件 [3] 分组4：公司优势 - Silvaco的模拟解决方案技术无关，支持多种应用，其工具具有以用户为中心的特点，可让工程师更快速准确地创新 [4] 分组5：公司介绍 - Silvaco是提供TCAD、EDA软件和SIP解决方案的公司，其解决方案用于半导体和光子学等领域开发，公司总部位于加州圣克拉拉，在全球多地设有办事处 [5]