公司基本信息 - 证券简称龙图光罩，代码 688721，2024 年 12 月 4 日下午 4:00 在珠海市龙图光罩科技有限公司大楼四楼会议室进行特定对象调研，参与单位有广发基金、交银施罗德等，接待人员有总经理助理邓少华和证券事务代表李建东 [2] - 公司 2010 年成立，是具备关键技术攻关能力、拥有自主知识产权的独立第三方半导体掩模版厂商，主营业务为半导体掩模版研发、生产和销售，2022 年 8 月设立珠海市龙图光罩科技有限公司 [2] - 半导体掩模版工艺节点从 130nm 逐步提升至 65nm，产品应用于功率半导体等领域，终端涵盖新能源等场景，立志成为国际一流半导体掩模版厂商 [2] 投资者互动交流 产品毛利率高原因 - 半导体掩模版“高精度、多品种、小批量”，精度要求高且客户分散，议价能力强、定价水平高 [2] - 掩模版是下游晶圆制造工具，成本占比低但影响大，下游客户重品质、对价格敏感度低，毛利率高 [3] 光刻机差异 - 公司用直写光刻机（无掩模光刻机），下游客户用有掩模光刻机 [3] - 公司制造掩模版注重精度、定位精度和灵活性，下游客户转移图形到产品材料上更关注生产效率、套刻精度和稳定性 [3] 募投项目进度 - 前年开始订长周期设备，今年一季度主要设备陆续到货，正在进行第三代光罩产品工艺调试和样品试制，进度取决于客户相关周期，有进展会公告 [3] 产品认证流程和周期 - 流程包括签 NDA 协议、评估信息安全管理体系、考察制版能力及关键指标、验证工艺和测量方式匹配性、确认数据处理和 JDV 环节、提供样品评估、成品流片测试等 [3] - 认证周期通常 6 至 12 个月甚至更长，制程等级越高，认证越严格、周期越长 [3] 竞争优势 - 研发与创新优势显著，研发团队经验丰富、技术转化能力强，已取得多项发明专利和软件著作权 [3] - 领先的技术实力，已实现 130nm 工艺节点半导体掩模版量产，达到± 20nm 的 CD 精度和套刻精度，国内第三方厂商中领先 [3] - 客户资源优质且稳定，与众多知名客户建立长期合作，涵盖面广、合作稳定性高 [3] - 全面的客户服务能力，积累大量服务经验，掌握大部分（130nm 及以上）光刻机制版要求信息库，能识别理解客户特殊要求，缩短磨合期 [3][5]