行业或公司 * 光刻机行业 * 半导体行业 * 光电行业 * 飞空设备行业 核心观点和论据 * 光刻机技术演进趋势明确： 国外光刻机技术正朝着光和电混合晶片的方向发展，国内需通过2D封装、2.5D封装等方案达到电荷和光的集成[1]。 * 国内光刻机行业面临挑战： 国外光刻机成本低于国内，国内需紧跟技术发展，否则可能被淘汰[1]。 * 光刻机行业竞争激烈： 国外客户对光刻机的要求越来越高，国内需提升竞争力[2]。 * 国内光刻机行业面临机遇： 非空心的国内产能主要集中在苏州，苏州工厂可应对现有需求[3]。 * 光刻机行业需加强人才培养： 需培养设计、软件控制、硬件分析等方面的人才[7]。 * 飞空设备行业需求增长： 国内厂家对飞空设备需求崛起，飞空设备行业面临机遇[11]。 * 飞空设备行业需提升技术水平： 需提升设备升级和替换模块的能力，以满足不同需求[16]。 其他重要内容 * 光刻机行业面临人才短缺问题： 需加强人才培养，以满足行业需求[7]。 * 光刻机行业需加强国际合作： 与国外企业合作，共同提升技术水平[11]。 * 光刻机行业需关注政策变化： 政策变化对行业影响较大[15]。 * 飞空设备行业需关注市场需求： 关注市场需求变化，及时调整产品策略[16]。