纪要涉及的行业和公司 - 行业：光刻机行业、半导体行业 - 公司：ASML（阿斯麦尔）、佳能、尼康、中芯国际、华虹半导体、福晶科技、阿石创、惠程真空、迈莱光学、波盛光电 纪要提到的核心观点和论据 市场格局 - 全球市场：全球光刻机市场高度集中，ASML 占据超 80%份额，佳能和尼康已落后；低端 IE 光刻机领域佳能出货多，KRF 领域 ASML 一年出货超 150 台，尼康和佳能约 50 台，干法 ARF 领域年出货约 28 台，静默式 ARF 领域达 129 台，EUV 领域基本仅 ASML 能生产[1][10]。 - 国内市场：国内半导体行业在先进制造和光刻机领域处于从 0 到 1 阶段，因海外对高端光刻机禁运，发展迫切性高；国内在先进制程中使用静默式光刻机多，是国产替代迫切方向，但面临巨大挑战[2][11]。 技术发展 - 光刻技术：经历接触式、接近式到投影式发展，投影式成主流，还引入液浸式技术优化成像效果；光刻机发展从机线光刻机（波长约 430 纳米）到 i 线（365 纳米）、KRF（248 纳米）、ARF（193 纳米）、EUV（13.5 纳米）[1][5][9]。 - 核心组成部分：光源系统决定波长和功率，影响加工精度和良率；照明系统将激光传输到掩模版，含关键部件可优化光束形状；投影物镜系统将掩模版图案投影到硅片，设计与制造难度大，价值量最高[1][12][15]。 国产替代 - 重点方向：未来国产替代卡脖子环节重点关注中芯国际代表的先进制造，以及福晶科技、阿石创等代表的光刻机产业链，这些方向有巨大市场空间和长期成长潜力[1][7]。 产品与部件 - ASML 产品：产品编号越大越高端，不同型号根据分辨率适用于不同精度加工任务，高分辨率支持更先进制程、提高良率[13]。 - 光源系统：是光刻机制成核心，由发光部件等组成，影响加工精度和良率，是决定分辨率重要因素之一[12]。 - 光学公式：分辨率由光源波长、物镜数值孔径、工艺因子决定，短波长、高数值孔径和优化工艺因子可提升分辨率[14]。 - 不同光源：汞灯适用于低分辨率需求，KrF 和 ArF 可实现更短波长提高分辨率，EUV 采用二氧化碳激光击打锡滴产生 13.5 纳米极紫外线，是最先进复杂技术[16]。 其他重要但可能被忽略的内容 - 产业链差异：全球以 ASML 为例，镜头由蔡司公司制造并运送；国内由供应商设计镜头，交给专业公司制造[19][20]。 - 工件台：在曝光过程中关键，技术难点包括抗震能力和稳定运行速度，配备高精度传感器确保芯片与光束精确定位，部分高端传感器依赖手工制作[21]。 - 市场看法：市场看好光刻机赛道，与先进制程密切相关，不受短期业绩和估值波动影响，重点推荐中芯国际、福晶科技、阿石创等公司，福晶科技股价从 2024 年底至今滞涨，板块有机会可能迎来行情[22]。