纪要涉及的行业或公司 * 公司：ASML（半导体光刻设备制造商）[1] * 行业：半导体设备制造、半导体制造（代工与存储）[1] 核心观点与论据 * 短期业绩与指引 * 2026年营收指引为340亿-390亿欧元，范围宽泛，主要取决于客户晶圆厂准备进度及公司自身执行与移机率提升速度[1] * 在2026年营收指引中，假设中国区收入占比为20%（68亿至78亿欧元），暗含同比下滑（2025年为81亿欧元）[2] * 公司对2026年中国区收入的指引一贯保守，不应过分悲观[2] * 非中国区的DUV需求开始强劲复苏，是支撑“2026年DUV收入同比持平”这一指引的因素[2] * 产能与供应瓶颈 * EUV需求量预期在2027年突破70台，管理层表示产能上限高于70台，不构成瓶颈[2] * 产能爬坡需要时间，公司正在逐季度提升移机率[2] * 光刻机扩产受限于反射镜、光源、工程师、厂房等[2] * 供应链方面，蔡司正扩产EUV镜头产能，2027年会有较大幅度上修；公司已备好厂房，但工程师招聘和培训需要时间[2] * 浸润式ArFi（DUV高端型号）也存在产能瓶颈，2026年其收入可能同比下滑[2] * 长期需求与技术趋势 * 公司下游两大行业（代工与存储）都处在历史级的高景气区间中，2026~2027年的需求十分明确[1] * 在存储（Dram）领域，从6F²架构转向4F²架构不会降低EUV需求，因4F²结构更复杂，需要更先进的光刻掩模，会同时增加浸润式DUV和EUV的光刻强度[3] * 在代工领域，确认每一代新节点（如N2、A16、A14）的EUV层数都会增加，其中A14节点EUV层数将增加10-20%，A10节点会进一步提升[3] * High-NA EUV客户正积极测试，大规模下单决策预计在2026年下半年至2027年做出[3] 其他重要内容 * 市场反应与担忧：公司股价从盘前上涨6%转为业绩会后下跌2%，主要源于市场对两个问题未获解决的担忧：对中国区指引依旧保守，以及未对产能爬坡给出明确的承诺[1] * 业绩关键变量：2026年业绩主要取决于客户扩产进度，中国区收入不构成重要变量[1]