ASML Holding(ASML) - 2026 Q2 - Earnings Call Transcript

财务数据和关键指标变化 - 2026年第二季度总净销售额为93亿欧元,高于指引上限,主要由于安装基础管理业务销售额高于预期 [7] - 第二季度净系统销售额为66亿欧元,其中EUV系统销售额为38亿欧元(包括一台High-NA系统),非EUV系统销售额为28亿欧元 [7] - 第二季度净系统销售额在逻辑和存储业务间几乎平分,逻辑占51%,存储占49% [7] - 第二季度安装基础管理业务销售额为28亿欧元,比指引高出近3亿欧元,主要由额外的升级业务驱动 [7] - 第二季度毛利率为54%,高于指引,主要由于安装基础管理业务中极高毛利率组件的贡献 [8] - 第二季度运营费用高于指引,主要由于在第二季度确认了与技术及IT转型相关的预估成本,主要在研发费用中 [8] - 第二季度研发费用为13亿欧元,销售、一般及行政费用约为3亿欧元 [8] - 第二季度实际税率为17.5%,预计2026年全年年化实际税率约为17% [8] - 第二季度净利润为29亿欧元,占总净销售额的31.3%,每股收益为7.59欧元 [8] - 第二季度末现金等价物及短期投资水平为76亿欧元,第二季度自由现金流为13亿欧元 [9] - 公司预计第三季度总净销售额在110亿至120亿欧元之间,安装基础管理业务销售额约为29亿欧元 [10] - 预计第三季度毛利率在55%至57%之间 [10] - 预计第三季度研发费用约为12亿欧元,销售、一般及行政费用约为4亿欧元 [10] - 公司更新了2026年全年指引,预计总净销售额在430亿至450亿欧元之间,毛利率在54%至56%之间 [10] 各条业务线数据和关键指标变化 - 在EUV业务方面,公司预计今年将出货约65台Low-NA EUV系统,EUV净系统销售额同比增长将超过45% [16] - 在DUV业务方面,预计今年浸没式DUV出货量约为130台,与2025年这些系统的产出水平相似 [16] - 干式DUV系统出货量今年也显著增加 [16] - 鉴于DUV及计量与检测业务的趋势,公司预计今年非EUV净系统销售额将增长约25% [17] - 预计今年安装基础管理业务销售额将增长超过30%,由不断扩大的EUV装机基础的服务收入以及客户为支持其不断增长的产能需求而进行的性能和生产力升级需求驱动 [17] - 公司预计与中国相关的业务将占全年总净销售额的约20%,随着整体业务增长而增加,主要与主流逻辑需求增加相关 [17] - 公司预计今年与先进逻辑代工相关的净系统销售额将增长超过25% [13] - 公司预计今年与存储相关的净系统销售额将增长超过75% [15] 各个市场数据和关键指标变化 - 在逻辑领域,客户持续投资,不仅为了支持最新一代AI加速器的3纳米产能扩张,也在5纳米和4纳米节点进行投资,以支持AI产品所需的各种芯片 [13] - 同时,2纳米节点继续快速爬坡以支持下一代高性能计算和移动应用,客户已在规划投资以支持1.4纳米节点的开发 [13] - 在DRAM领域,供应挑战推高了DDR和HBM价格,促使了对晶圆厂扩张的重大投资 [14] - 客户正在增加今年的产能,同时计划进一步扩大产能,如建设多个巨型晶圆厂的计划所示,这些新增产能将在未来几年分阶段上线 [14] - DRAM光刻强度正在上升,因为客户迁移到更先进的节点,这包括EUV和浸没式DUV,其中EUV Low-NA的增长是由多图案化被更具成本效益的单次曝光EUV替代所驱动 [14][15] 公司战略和发展方向和行业竞争 - 客户需求持续强劲,能见度现已延伸至未来数年,公司已有效应对不断增长的需求,并将继续投资以确保产能和能力与客户需求保持一致 [21] - 先进逻辑和DRAM中AI相关需求的快速增长正在加速向更先进光刻解决方案的迁移,并提高了光刻强度 [21] - 公司计划在2027年将Low-NA EUV产能提高约30%,并已收到大量2028年的Low-NA EUV订单,强劲的客户需求预测促使公司研究在2028年进一步增加30%的产能 [18] - 对于浸没式系统,公司计划在2027年将产能提高30%,并正在研究2028年可能进一步扩大30%的潜力 [18] - 在技术路线图方面,High-NA EUV继续取得良好进展,公司正与客户密切合作,以证明High-NA技术对其工艺技术路线图的价值,同时该平台的成熟度正朝着插入大批量制造所需水平的方向提升 [20] - 公司宣布英特尔代工厂正在其Intel 18A工艺节点上使用ASML High-NA EUV技术生产部分英特尔酷睿Ultra系列3处理器,这标志着在量产环境中展示High-NA EUV准备就绪的重要一步 [20] - 公司计划在2027年6月10日举行的下一次资本市场日上更新长期展望,以反映自上次资本市场日以来的市场和技术动态 [21] 管理层对经营环境和未来前景的评论 - 客户需求持续强劲的势头,以及公司通过供应链、制造和现场安装团队的优势提高产出以响应该需求的能力,是公司上调指引的主要驱动力 [12] - 强劲的终端市场需求促使客户积极增加其先进节点的产能,一些客户已上调了今年的资本支出计划,公司提高产出的能力使其能够满足客户对额外光刻系统的需求 [12] - 先进逻辑和DRAM的动态非常相似,建立产能的计划同样积极 [12] - 两个领域的客户都在与其客户签订长期协议,为他们提供了更长期的能见度和增加大量产能以支持需求的信心 [13] - DRAM光刻强度正在上升,因为客户迁移到更先进的节点 [14] - 公司看到订单势头在上半年保持极其强劲,这反映在能见度的提高上,因此公司的积压订单持续增加,客户构成广泛 [18] - 对于2027年,公司在Low-NA EUV方面已接近完全被订单覆盖 [18] 其他重要信息 - 在第二季度,ASML支付了2025年度的最终股息,每股普通股2.70欧元,加上2025年和2026年支付的三笔中期股息,2025年总股息为每股普通股7.50欧元 [9] - 在第二季度,公司在当前2026-2028年股票回购计划下回购了价值约11亿欧元的股票 [9] - 2026年第一笔季度中期股息将为每股普通股1.88欧元,将于2026年8月5日支付 [9] - 公司计划在2027年将Low-NA EUV产能提高约30%,并研究在2028年进一步增加30%的产能,这些产能增加基于现有工厂面积 [18][33] - 公司预计今年与存储相关的净系统销售额将增长超过75% [15] - 公司预计今年与先进逻辑代工相关的净系统销售额将增长超过25% [13] - 公司预计今年安装基础管理业务销售额将增长超过30% [17] - 公司预计今年非EUV净系统销售额将增长约25% [17] - 公司预计今年EUV净系统销售额将增长超过45% [16] - 公司预计今年浸没式DUV出货量约为130台 [16] - 公司预计今年将出货约65台Low-NA EUV系统 [16] - 公司预计今年将确认4至5台High-NA EUV系统的收入 [108][110] 总结问答环节所有的提问和回答 问题: 关于ASML基于价值交付的定价方法,以及台积电关于High-NA系统太贵的评论,是否可能调整Low-NA的定价以保持与增量价值一致 [25] - 回答: High-NA的设计和性能旨在为客户提供成本效益,但这需要平台达到适当的成熟度,当达到时,High-NA的成本将提供相对于现有技术的优势,这一逻辑同样适用于Low-NA,因此无需特别关注一个工具价格与另一个工具价格的比较,High-NA要具有成本效益,需要达到成熟度 [26][27] - 补充回答: 对于Low-NA定价,公司持续提高Low-NA工具的生产力,这为未来潜在的价格改进提供了相当强的空间,基于价值的定价是公司遵循的概念,在当前环境下,为客户带来的价值更高,这为定价提供了比以往更多的灵活性,但考虑到较长的订单交付周期,这不会立即转化为定价效应 [29][30] - 追问: 定价调整何时可能发生 [32] - 回答: 这取决于与客户的订单情况,显然与订单交付周期相关,这因客户而异,但动态确实存在 [32] 问题: 关于2028年30%的产能增加(意味着110台工具),“研究”一词是否意味着需要新的洁净室,还是考虑增加ASML的洁净室能力 [33] - 回答: 所有计划中或正在研究的产能增加都基于现有的工厂面积,公司可以通过优化现有洁净室空间来实现这些数字,这也是为什么可以在短期内实现这种改进 [33] 问题: 关于2027年Low-NA EUV订单接近完全覆盖,产能增加30%意味着约85台工具,这是否是明年公司和供应链能支持的上限,现有面积是否可能支持更多,随着2027年临近,这个数字是否可能上调 [37] - 回答: 85台代表了当前供需平衡,如果客户需要更多,公司将像过去几个月所做的那样,审视自身和供应链,看看能否做得更多,目前根据现有对话,85台很好地代表了客户需求与公司要求供应链所能做到之间的平衡 [38] - 补充回答: 两次30%的产能增加都基于现有工厂面积,问题在于支持客户需求所需执行的速度,公司拥有空间和实现这些数字的方法,将继续与客户保持同步,并努力增加产出 [40] - 补充回答: 不应只看单位百分比增长,公司明年出货的工具组合将与今年不同,对于EUV,明年将是E型和F型,而今年是B型和E型的组合,考虑到产出差异,本质上增加的不仅是30%的晶圆产能,而是大约45%,此外,公司还提供一系列升级包给装机客户,这提供了另一个显著提升,通过结合提高内部产出单位数量的能力、工具的生产力以及装机基础的升级,公司认为在满足客户目标和需求方面非常成功 [41][42] 问题: 关于优化现有洁净室空间对产能的影响,这是否会改变对High-NA产能的看法,能否提醒2027、2028年High-NA的产能展望 [43] - 回答: 对于High-NA,公司遵循同样的原则,即供应与客户需求匹配,公司对所有产品进行优化,关于High-NA的插入也有讨论,公司保持灵活性以便在时机成熟时做出响应,之前提到的优化是针对所有产品的,目前更多工作集中在Low-NA和浸没式系统上,但并没有以牺牲任何High-NA供应为代价进行优化 [43] 问题: 关于产能增加到85和110台,公司是否在满足需求而非供应不足,为了增加产能,公司是否在等待客户的采购订单 [47] - 回答: 需求尚未达到稳定状态,公司持续与客户修订需求,目标是供应跟随需求,讨论尚未结束,市场动态仍然强劲,这带来一些压力以确保供需匹配,简短回答是,产能可以满足需求,但需求仍在波动,公司对2027年甚至2028年有了更好的能见度,但主要与客户的讨论尚未结束 [48][49] - 补充回答: 公司并非等待订单,对于2028年110台EUV Low-NA的情景,公司目前没有订单,但正在预做准备,因为从客户那里得到的需求信号非常强劲,即使尚未转化为完整的采购订单 [50] 问题: 关于3纳米节点似乎比人们想象的更持久和强劲,是否仍在出货3600D型号,明年是否不会有D型号,毛利率明年是否应因混合转向更多E和最终F型号而增长 [51] - 回答: 在某个时间点,D型号将售罄,D型号使用特定的ZEISS QB,预计今年将基本完成,可能有一两台滑入明年,但本质上今年将结束,从那时起,将没有D型号的积压订单,因此明年将生产E型和F型,这种组合将带来更好的平均售价,因为生产力更高,毛利率状况也更好 [52] - 补充回答: 不会提供明年的毛利率指引,但EUV的混合效应明年将比今年更积极 [53] 问题: 关于2028年,公司表示已有大量订单量但尚未完全预订,能否帮助了解110台目标目前的能见度覆盖情况,以及目前的交付周期 [56] - 回答: 公司不会分享订单接收量或覆盖数字,但从客户那里得到的需求信号足够强劲,使公司能够认真研究110台这个数字以及相关的浸没式系统数字,提前两年就开始谈论已收到大量2028年订单,这本身就非常强劲,是当前市场动态的良好支撑 [57][58] 问题: 关于2026年存储业务75%的增长,有多少来自HBM驱动的光刻强度增加,有多少来自容量增加,即客户的投资是在缩小供需缺口还是仅仅投资于HBM等新技术 [59][60] - 回答: 需求实际上是HBM和DDR两者容量大幅增加的结合,最近由于DDR价格点非常强劲,客户之间有一些优化,两者之间的确切比例很难确定,但这在技术层面对公司影响不大,因为DRAM本身是相同的,HBM需要更多晶圆,这是容量效应,第二个因素是,在目前快速爬坡的节点上,EUV和浸没式层数增加了,例如1c甚至1b节点使用了更多EUV层,正是这种结合为ASML在DRAM领域创造了今年的完美风暴,很可能未来几年也是如此 [61][62] 问题: 关于2026年指引,结合对浸没式、EUV和IBM的出货指引,似乎难以达到中点,甚至可能超过上限,第三、四季度平均售价是否因软件附加率或混合效应而上升,全年毛利率指引显示第四季度毛利率退出率在56%-58%,这表明混合、销量、软件升级等非常强劲,试图理解这些平均售价和系统的情况 [65][66] - 回答: 指引中确实存在一些混合效应,对于EUV,上半年有相当多的D型号,下半年混合效应会更积极,下半年还将包含所有230配置,这肯定有助于平均售价,此外,下半年浸没式系统数量将大幅高于上半年,因为上半年浸没式系统数量较低,是由于2025年公司决定让ZEISS为比当前面临的数量低得多的浸没式系统做准备,公司从年初较弱的状态开始,将在下半年大幅弥补,达到指引需要大约65台EUV工具,且平均售价混合略好,浸没式系统将非常强劲,安装基础业务将增长超过30%,综合考虑这些因素,应能达到中点,在毛利率方面,如果进行分析并取中点值,下半年毛利率约为56%,第三季度指引为55%至57%,第四季度中点应大致相同,原因在于混合效应(更多浸没式和Low-NA EUV)、定价更好的EUV、强劲的安装基础业务以及销量效应(下半年产量远高于上半年带来的固定成本覆盖) [67][68][69][70] 问题: 基于之前提到的EUV工具混合等因素,是否有理由认为2027年毛利率不应高于2026年的退出率,能否提供明年Low-NA工具混合的任何信息,是E型为主还是F型占价值50%以上 [71] - 回答: 不会提供2027年毛利率指引,如果看刚才提到的下半年优于上半年的主要驱动因素,EUV内部的混合效应只会更好,因为明年将是E型和F型的组合,主要份额将是E型,但明年混合将优于今年,甚至优于下半年,对于浸没式和EUV,考虑到计划增加30%的产能,高利润率的扫描仪产品应该表现积极,销量效应和固定成本覆盖也应存在,变数在于安装基础业务,其服务部分应会强劲增长,因为几乎随装机基础自然增长,升级业务的强度在目前市场动态下可以现实地假设,这是对各组成部分的定性描述,如果对2027年的展望仍然是客户寻求产能扩张的看涨市场,那么可以认为刚才提到的毛利率驱动因素在明年也将强劲 [72] 问题: 关于单位数与生产力之间的差异,30%的单位数增长但实际交付给客户的生产力是45%,除了生产力,3800F还提供套刻精度改进,鉴于之前的评论,45%的生产力是否真的是该期间EUV收入建模的下限 [76] - 回答: 不会以任何方式指导明年的业务,公司已经说了对明年的计划,但尚未将其转化为欧元金额 [77] 问题: 关于过去生产力增益是共享的,现在除了简单的产量生产力,还有套刻精度改进等,当公司说定价有更多灵活性时,是否应考虑这些因素 [78] - 回答: 公司一直能够向客户展示的不仅是生产力升级,还有更好成像、更好套刻精度等的价值,公司总是以公平的方式与客户分享价值,这导致生产力改进与平均售价之间存在非常强的相关性,换句话说,客户为生产力升级付费,而套刻精度改进、成像质量等价值则是免费提供的,这是历史形成的方式,没有理由认为这会 dramatically 不同,除了之前提到的,在当前环境下,公司带来的价值很大,公司显然也在与客户讨论如何为这些额外价值获得回报 [79][80] 问题: 关于安装基础业务,量化了全年展望,这感觉像是另一次上调,该业务趋势已好转一段时间,在升级机会方面,鉴于客户因洁净室有限而需要增加工具容量,是否有计划使升级协议更成体系,以获得更好的能见度 [81][82] - 回答: 关键因素是客户希望尽可能快地在其现有晶圆厂获得更多容量,这为系统升级创造了非常有利的条件,今年如此,明年及以后可能仍然如此,对非常成功的先进节点的容量需求存在,公司开发的升级产品覆盖所有不同版本的EUV Low-NA或浸没式系统,能够为客户的每一台EUV或浸没式工具提供产品,目前看到这些产品被高度接受,以至于有许多讨论要求公司尝试加速并创造新产品,公司计划在2027年甚至2028年这样做,只要继续经历这种巨大需求,现有节点受限于现有晶圆厂,预计对这些产品的需求将非常强劲 [82][83] 问题: 关于投资者通常将公司增长与全球晶圆厂设备支出增长比较,2026年由于洁净室限制等原因有很多升级,2027和2028年理论上将有更多洁净室空间用于绿地

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