公司概况 - 深圳清溢光电股份有限公司成立于1997年8月，注册资本26,680万元人民币，2019年11月在上海证券交易所科创板上市 [2] - 公司是国内成立最早、规模最大的掩膜版生产企业之一，主要从事掩膜版的研发、设计、生产和销售业务 [2] - 公司主要产品为掩膜版(Photomask)，是下游行业产品制造过程中的图形"底片"转移用的高精密工具，应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业 [2] 荣誉与资质 - 2018年3月荣获"中国新型显示产业链特殊贡献奖" [2] - 2019年7月自主研发的5.5代AMOLED用掩膜版荣获"迪斯普大奖——显示产业链贡献"奖项 [2][3] - 2022年6月获评深圳市专精特新中小企业称号 [3] - 2022年8月被认定为国家级专精特新"小巨人"企业 [3] - 2023年1月被评为"深圳市制造业单项冠军示范企业" [3] 战略规划 - 制定了"平板显示掩膜版+半导体芯片掩膜版"互促共进的"双翼"战略 [3] - 目标成为全球范围内掩膜版行业中产能规模较大、市场占有率较高、营业收入与利润增长较快的行业领先者 [3] - 正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发，规划28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发 [3] 产能布局 - 目前主要募投项目"合肥清溢光电有限公司8.5代及以下高精度掩膜版项目"已实现AMOLED、HTM等高规产品量产 [3] - 现有工厂包括深圳工厂(生产半导体芯片掩膜版及平板显示掩膜版)和合肥工厂(生产平板显示掩膜版) [3] - 正在筹备佛山工厂，拟投资35亿元建设佛山生产基地项目 [4] - 佛山项目总体建设周期为36个月，其中高精度掩膜版生产基地建设项目一期预计建设周期为24个月，高端半导体掩膜版生产基地建设项目一期建设周期为36个月 [4] 技术进展 - 已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产 [3] - 已实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证 [3] - 正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发 [3] - 规划28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发 [3] 市场优势 - 平板显示掩膜版国产化率较低，国产替代是重要影响因素 [3] - 与国际竞争对手相比，具有运距短、运输便捷的优势，能提供更快速的服务 [4] - 本地化服务能更好地满足客户返清洗、返修、补贴膜等需求 [4]