近日，一些媒体报道了英国部署电子束光刻机相关的新闻，并号称打破 ASML的EUV技术垄断。部分 报道甚至号称这是全球第二台电子束光刻机，能绕过ASML。实际上当前没有任何信息表面该电子束曝 光机可以用于5nm制程的芯片量产的光刻环节。在这些媒体的报道中，英国似乎已经拳打ASML，脚踢 EUV了。 那事实真的如此吗？实际情况到底如何呢？ 01英国部署全球第二台200kV电子束光刻设备 实际上，英国南安普敦大学宣布的是，成功开设了日本以外首个分辨率达5纳米以下的尖端电子束光刻 (EBL)中心，可以制造下一代半导体芯片。这也是全球第二个，欧洲首个此类电子束光刻中心。 据介绍，该电子束光刻中心采用了日本JEOL的加速电压直写电子束光刻(EBL)系统，这也是全球第二台 200kV系统（JEOL JBX-8100 G3）（第一台在日本），其可以在200毫米晶圆上实现低于5纳米级精细 结构的分辨率处理。这可以在厚至10微米的光刻胶中实现，且侧壁几乎垂直，可用于开发电子和光子学 领域研究芯片中的新结构。JEOL的第二代EBL设备——100kV JEOL JBX-A9 将计划用于支持更大批量 的300毫米晶圆。 目前JEOL的 ...