光刻工序的重要性与国产替代现状 - 光刻工序占据芯片产线50%的时间和30%的成本，是集成电路制造的核心环节 [1] - 前道光刻机国产替代率不足3%，前道涂胶显影设备国产替代率不足10%，长期被日本企业高度垄断 [1] - 涂胶显影机与光刻机、光刻胶并称为光刻工序三大要素 [1] 芯源微的发展历程与市场地位 - 公司是国内唯一可提供量产型中高端涂胶显影设备的企业，已发展成为细分领域龙头企业 [1] - 从4寸、6寸做到8寸、12寸设备，从LED扩展到后道先进封装和前道领域 [1] - 2019年成为"辽宁省科创板第一股"，目前产品在后道先进封装领域市占率超过50% [1][3] 国产替代面临的三大挑战 - 设备高度复杂：最先进涂胶显影机含150+单元、10+机械手，每小时上万次机电动作 [2] - 联机作业要求高：必须匹配光刻机的产能、良率和可靠性标准 [2] - 日系设备垄断率超90%，市场竞争格局严峻 [2] 技术突破与市场覆盖 - 前道设备覆盖28纳米以上所有工艺节点，满足中国半导体90%以上成熟工艺需求 [3] - 前道物理清洗设备达国际先进水平且市占率第一，化学清洗设备突破高温硫酸工艺验证 [3] - 持续布局2.5D/3D封装等新兴领域，研发投入2.97亿元（2024年同比增50%） [3] 区域产业优势与研发战略 - 沈阳具备装备制造业基础、稳定人才队伍及政府支持体系 [3] - 公司研发费用连续多年超营收10%，技术突破即将转化为市场成果 [3]