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德福科技突破高端铜箔技术壁垒,加速电子电路材料国产化进程

行业背景与机遇 - 高端电子电路铜箔作为算力基础设施核心材料,正迎来国产化替代的历史性机遇,受益于人工智能服务器需求爆发与5G基站建设加速 [1] - 2024年国内电解铜箔销量达109万吨,高端电子电路铜箔市场长期由日本企业主导 [2] - AI算力基础设施加速建设推动高端电子电路铜箔需求持续增长 [2] 公司技术突破与研发 - 公司依托"夸父实验室"平台组建超百人研发团队,重点突破超低轮廓、高延伸率等核心技术 [1] - 2024年研发投入达1.83亿元,同比增长30.45%,新增17项发明专利,技术储备覆盖AI服务器、6G通信、汽车雷达等前沿领域 [1] - 通过材料改性工艺与电沉积技术优化,成功开发RTF、HVLP两大系列产品 [1] - HVLP铜箔粗糙度低至1.0μm以下,信号损耗较传统产品降低30%,已批量应用于英伟达AI加速卡及华为数据中心服务器 [1] - RTF铜箔通过松下电子认证,粗糙度控制在1.5μm,满足汽车电子ADAS系统高频高速信号传输需求 [1] 市场表现与产品应用 - 2024年高端电子电路铜箔出货占比提升至10.86%,与生益科技、台光电子等全球头部厂商建立稳定合作 [2] - 产品覆盖AI服务器、5G基站、消费电子等多领域 [2] - 在锂电铜箔领域,超薄化产品已稳定供货宁德时代、比亚迪等头部企业,2024年市占率达8.7% [2] - 开发的埋阻铜箔完成客户端测试,该产品将电阻元件集成于铜箔层,可简化PCB制造流程并提升信号完整性 [2] 未来战略布局 - 公司将深化"高频高速、超薄化、功能化"技术战略,重点布局6G太赫兹通信用极低轮廓铜箔及固态电池专用集流体材料 [2] - 通过"珠峰实验室"与"夸父实验室"双平台驱动,构建覆盖新能源与电子信息产业的高端铜箔技术体系 [2]