认证基本情况 - 公司光刻气产品Kr/Ne和Ar/Ne/Xe通过日本GIGAPHOTON株式会社合格供应商认证 有效期至2030年7月23日 [1] 认证方背景 - 日本GIGAPHOTON株式会社成立于2000年 是半导体光刻领域核心企业 专注于光刻用准分子激光机及DUV/EUV光源开发制造 [1] - 该公司凭借独创激光技术和光学测量技术为全球半导体厂商提供光刻光源解决方案 在亚洲市场获得几近全数半导体业者青睐 欧美市场实现快速增长 [1] 业务影响 - 认证表明公司产品在纯度、稳定性等核心性能指标上满足国际高端半导体制造领域严格要求 [2] - 认证是对公司技术研发实力和产品质量控制体系的重要认可 [2] - 认证有助于公司拓展高端半导体设备产业链业务机会 提升电子特种气体领域市场竞争力 对光刻气产品业务拓展具有积极作用 [2]