认证情况 - 公司光刻气产品（Kr/Ne、Ar/Ne/Xe）通过日本GIGAPHOTON株式会社合格供应商认证 [1] - 认证有效期至2030年7月23日 [1] 认证方背景 - 日本GIGAPHOTON株式会社成立于2000年，总部位于日本栃木县小山市 [1] - 该公司为半导体光刻领域核心企业，专注于光刻用准分子激光机、深紫外（DUV）光源及极紫外（EUV）光源开发与制造 [1] - 凭借独创激光技术和光学测量技术为全球半导体厂商提供高性能光刻光源解决方案 [1] - 在包含日本的亚洲市场获得几近全数半导体业者青睐，欧美市场实现快速增长 [1] 认证影响 - 表明公司产品在纯度、稳定性等核心性能指标满足国际高端半导体制造领域严格要求 [1] - 认证是对公司技术研发实力和产品质量控制体系的重要认可 [1] - 有助于拓展高端半导体设备产业链业务机会，提升电子特种气体领域市场竞争力 [1]