台积电2nm工艺泄密事件 事件概述 - 台积电发现其2纳米先进制程芯片制造技术存在商业机密泄露，已对涉事员工采取行动 [1] - 公司通过常规监控机制发现违规行为，涉及商业秘密泄漏，案件已进入司法程序 [1] - 台积电声明对破坏商业机密行为采取零容忍政策，将依法追究责任 [1] 涉案人员及行为 - 约10人涉案，其中1人为跳槽至东京电子的前员工，已被收押，涉嫌通过旧同事获取商业秘密 [1] - 6名研发中心人员因在职期间通过网络传送2纳米资料被调离原单位 [1] - 3名2纳米试产人员在远程工作期间违规连接内网，用手机拍摄400多张制程技术照泄露给东京电子员工，证据确凿被开除并移交司法部门 [2] 公司应对措施 - 对涉事违规人员进行严厉惩处，包括开除、调岗及法律行动 [1][2] - 案件已进入司法程序，检方向智财及商业法院申请羁押获批准 [2] 技术影响 - 泄露内容涉及2纳米先进制程芯片制造技术，属于公司核心竞争力 [1] - 公司强调通过全面监控机制保护商业秘密，此次事件未提及技术外泄的具体影响范围 [1][2] 行业关联 - 事件涉及东京电子员工，显示竞争对手可能通过不正当手段获取技术信息 [1][2] - 台积电未公开2纳米技术研发进度是否受影响 [1]