技术优势 - 公司掌握微纳光学领域五大主流制备技术中的五项 包括晶圆级同步结构化激光光学制造技术 光刻-反应离子蚀刻法晶圆级微纳光学精密加工制造技术 晶圆级微纳光学精密压印加工制造技术 精密模压和冷加工技术 [1] - 成为全球领先的微纳光学一站式解决方案提供商 能根据客户需求选择最优加工方法并通过多种技术协同形成独特解决方案 [1] 产品应用 - 在CPO等先进应用领域拥有多个应用案例 结合晶圆级同步结构化和光刻-反应离子蚀刻法 或WLO和光刻-反应离子蚀刻法制备微纳光学产品 [1] - 产品方案在全球范围具有很强独特性 未来将继续发挥资源与技术协同优势赋能创新光子应用解决方案 [1]