毋庸置疑，在ASML看来，High NA EUV会是未来的头等大事。在此前的二季度财报说明会上，荷兰设 备巨头也确认了一台高数值孔径EUV的收入。他们指出，虽然该项收入确认拉低了毛利率，但总体上 依然带来53.7%毛利率的强劲表现。 根据ASML在其第一季度财报电话会议上透露，英特尔已报告使用高数值孔径 (High-NA) 设备在一个季 度内曝光了超过 3 万片晶圆。这也显著改进了工艺流程，使特定层上的工艺步骤数量从 40 个减少到 10 个以下。另一家用户三星指出，其某一层的周期时间缩短了 60%。这些结果表明，该技术比 ASML早 期的低数值孔径 EUV 设备成熟得更快，后者需要更长的时间才能达到生产就绪状态。 几个月前，有报道指出，这家韩国巨头在 Exynos 2600 芯片的测试中，上述光刻技术的良率达到了 30%。而众所周知，要实现量产在财务上可行，良率至少需要达到70%。因此，采购这些高数值孔径 EUV光刻机或许能帮助三星实现这一目标，因为ASML的尖端工具有助于实现2纳米GAA工艺的超精细 电路。 然而，即使该公司拥有近乎无限的资金，也无法随心所欲地订购数量，因为ASML对其销售数量有所限 制。 ...