技术研发进展 - 40nm掩模板处于送样验证阶段 验证周期约6-9个月 [2] - 光掩膜项目技术节点锁定350-28nm范围 其中以45-28nm为主 [2] - 专业团队在半导体光掩膜版领域具备丰富技术研发经验及生产管理经验 [2] 产能建设规划 - 项目建设周期设定为60个月 依据关键设备交期确定 [2] - 项目达产后将形成年产12,450片半导体光掩膜版的生产能力 [2] - 公司正按既定工作计划积极推进各项生产工作 [2] 行业战略意义 - 项目建成后将填补国内先进制程光罩空白 打破国外高端产品垄断 [2] - 加速高精度、低线宽半导体光掩膜版领域的进口替代进程 [2] - 提升我国半导体光掩膜产业的安全性和可控性 [2]