全球光刻机市场竞争格局 - 荷兰ASML公司在高端极紫外光刻机（EUV）领域占据绝对主导地位，是全球唯一能制造最先进EUV光刻机的公司 [1] - 全球芯片产业竞争激烈，高端光刻机成为大国科技竞争的核心战场 [1] 外部技术限制与出口管制演变 - 2019年起美国政府对荷兰政府施压，导致ASML停止向中国出售最先进EUV光刻机 [3] - 2024年荷兰政府出台新出口管控规定，ASML需获得出口许可才能向中国销售特定型号的浸润式DUV光刻机 [3] - 至2024年初，ASML已基本停止向中国销售7纳米及以上先进制程的光刻机 [3] 中国半导体产业的自主创新进展 - 上海微电子已实现90纳米光刻机批量生产，28纳米技术研发接近完成 [5] - 中科院在全固态深紫外光源技术上取得突破，设备体积缩小30%，能耗降低50%，理论上可满足3纳米芯片制造需求 [5] - 晶瑞电材成功研发出适用于7纳米制程的光刻胶，南大光电的光刻胶产品通过客户认证 [5] 政策支持与市场需求驱动 - 光刻机研发制造被纳入中国“十四五”规划重点项目，地方政府提供超过50亿元配套资金支持并给予税收优惠 [5] - 预计到2025年中国光刻机市场规模将突破600亿元，年复合增长率超过30% [7] 未来竞争趋势与产业生态构建 - 中国未来三年将在成熟制程设备领域实现全面国产化，并在先进制程关键环节寻求突破 [7] - 全球供应链面临调整，中国可能通过“一带一路”等渠道推广光刻机中低端产能，构建更独立的半导体产业生态 [7] - 外部技术限制激发了中国的自主创新能力，无法阻挡其迈向自主创新的进程 [9]